Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #159335 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Multi-Shot-Aufdampfreaktor, der für den Einsatz in Halbleiter- und optoelektronischen Produktionsprozessen entwickelt wurde. Diese Kammer ist ideal für Anwendungen, bei denen dünne Filme auf Substrate aufgebracht werden. Es nutzt die Elektron-Cyclotron-Resonanz (ECR) -Plasmaquellentechnologie, um einheitliche Substrate mit hohen Abscheidungsraten und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu erreichen. Darüber hinaus ist der AMAT P-5000-Reaktor so konzipiert, dass er eine präzise Temperaturregelung ermöglicht, so dass der Anwender eine gleichmäßige Temperatur zwischen den Substraten erreichen kann. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor ist ein Single-Wafer und Multi-Prozess-Modul, das mit Ionenstrahl (IBE), Sputter-Abscheidung und ECR-Plasmaätzkomponenten ausgestattet ist. Das Vorhandensein dieser Funktionen vereinfacht die Kombination zweistufiger Prozesse und bietet Anwendern mehr Flexibilität. Die ECR-Plasmaquelle von AMAT P5000 eignet sich ideal für Abscheideprozesse bei niedrigen Temperaturen und zur Verarbeitung empfindlicher, empfindlicher Substrate ohne thermische Schädigung. Es bietet Anwendern eine Kombination von Prozesskontrollattributen, die hohe Abscheidungsraten, niedrige Plasmendichten und eine präzise Steuerbarkeit umfassen. Darüber hinaus ist die ECR-Plasmaquelle durch ihre hohe Gleichmäßigkeit und Steuerbarkeit ideal für Prozesse mit der Abscheidung dünner Filme geeignet. Die IBE-Quelle in P-5000 Reaktor arbeitet gleichzeitig mit der ECR-Plasmaquelle, so dass Benutzer gleichzeitig abscheiden und ätzen können. So können Anwender ihre Abscheide- und Ätzprozesse in einem Schritt abschließen und so die Produktivität des gesamten Prozesses verbessern. AMAT P 5000 Reaktor kann auch für fortgeschrittene Sputterabscheidungsprozesse verwendet werden. Sein Zerstäubungsprozess ist sowohl für die lineare als auch für die nichtlineare Materialabscheidung wirksam und genau in der Kammer enthalten. Das Sputterabscheidungsverfahren ist wirksam, um Schichtdicken von zehn Nanometern oder weniger zu erzeugen, und es kann auch verwendet werden, um überlegene Materialgleichförmigkeit zu schaffen. Schließlich kommt APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor auch mit einem Multi-Process Module (MPM) ausgestattet. Das MPM-Modul ermöglicht die fortgeschrittene Abscheidung von dünnen Schichten, wie transparenten Oxiden und Metallen. Darüber hinaus ist das MPM in der Lage, die Temperaturschwankungen von Substrat zu Substrat weiter zu verringern und so zuverlässige und leistungsstarke Produkte herzustellen. Zusammenfassend ist APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ein hochfunktionelles und zuverlässiges Gerät. Dank der ECR-Plasmaquellentechnologie, der Fähigkeit zur präzisen Temperaturregelung und der Fähigkeit, mehrere Prozesse in einem Schritt zu kombinieren, ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ideal für eine Vielzahl von Halbleiter- und optoelektronischen Fertigungsaufgaben.