Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #177998 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine Ultra-High-Vakuum-Deposition (UHVD) -Ausrüstung, die für die plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) entwickelt wurde. Es ist ein Werkzeug, das in der heutigen fortschrittlichen Halbleiterherstellung verwendet wird und die Abscheidung von dünnen Filmen für die Herstellung von Halbleitern, Displays und anderen in Konsumgütern verwendeten Geräten ermöglicht. Dieses System bietet außergewöhnliche Leistung beim Abscheiden von dielektrischen und metallischen Folien für eine Vielzahl von Anwendungen. AMAT P-5000 Reaktor ist für schnelle und effiziente UHVD-Prozessfähigkeit konzipiert, so dass Benutzer Filme mit präziser Zusammensetzungskontrolle ablegen können, ohne Verunreinigungen oder Konflikte. Es hat eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, Schrittabdeckung und Dickenkontrolle, die Schlüsselmerkmale für die heutige komplexe elektronische Geräteproduktion sind. Dieses Gerät verfügt über einen erweiterten internen Optimierungsprozess, um kritische Prozessparameter auf optimalen Ebenen zu halten. Es nutzt ein effizientes kapazitätsgekoppeltes Netzteil, um eine gleichmäßige Verteilung der Leistung zu gewährleisten, um hohe Abscheideraten zu erleichtern. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor verfügt über mehrere Feld-Typ induktiv gekoppelte Plasmaquellen, die in der Lage sind, bis zu 1 Watt HF-Leistung zu liefern. Es bietet auch eine präzise Temperaturregelung mit einem Bereich zwischen -150 und 600 Grad Celsius. Diese Maschine beinhaltet einen eingebauten Diagnosetemperaturregler, der eine genaue Messung der Prozesstemperaturen ermöglicht. Der Benutzer kann die Umgebung auch manuell anpassen, um jede Filmabscheidung anzupassen. P 5000 Reaktor bietet erweiterte Sicherheitsfunktionen, einschließlich eines automatischen Druckreglers und einer Inertgasdecke. Es ist mit Fernalarmen und einer automatischen Abschaltfunktion ausgelegt, die den sicheren Betrieb des Werkzeugs gewährleisten. P-5000 Reaktor bietet eine außergewöhnliche Vielseitigkeit, da er in der Lage ist, Dielektrika, Metalle und Nitride, Oxide und Polymere abzuscheiden. Es eignet sich gut zur Abscheidung von Photolack und zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieses Gut eignet sich auch zur Abscheidung von Platinmetallen, die in Draht- und Kontaktprozessen wesentlich sind. Insgesamt ist P5000 Reaktor ein fortschrittliches und zuverlässiges Modell, das eine überlegene Prozesssteuerung und -leistung bietet. Seine außergewöhnlichen Eigenschaften und Fähigkeiten machen es zu einem idealen Werkzeug für die heutigen komplexen Anwendungen.