Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #188546 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktor, der speziell für die Herstellung von Halbleiter- und Photovoltaikanlagen entwickelt wurde. Es ist eine reaktive Ionenätzung (RIE) und Sputterprozessausrüstung, die mit einer breiten Palette von Materialien arbeiten kann. AMAT P-5000 Reaktor besteht aus einer Vakuumkammer, einem Ätzgasverteiler, einem Gasanpassungssystem und der Steuer- und Messtechnik. Die Kammer ist mit Edelstahlwänden ausgebildet und der Innenraum besteht aus einem nichtmetallischen Werkstoff mit hoher thermischer Stabilität. Der Ätzgasverteiler ist mit einer Reihe von Ventilen und Düsen ausgestattet, um ein präzises Ätzen zu erleichtern. EINSATZSTOFFE Der Reaktor P 5000 ist in der Lage, unter Hoch- und Niederdruckbedingungen mit einem maximalen Druckbereich von 1-10 Torr zu arbeiten. Die Temperaturregelung erfolgt über Thermoelemente, während ein Massenstromregler die genaue Chemie des Ätzprozesses verwaltet. Das Gerät ermöglicht eine schnelle Einstellung der Reaktorparameter und eine präzise Steuerung des Ätzprozesses. Der Reaktor AMAT P 5000 ist mit einer digitalen Steuerungsmaschine für eine verbesserte Genauigkeit ausgestattet, die eine präzise Kontrolle des Ätzprozesses ermöglicht. Das Werkzeug ist aufgrund seiner fortschrittlichen Gasmischanlage in der Lage, hohe Abtragsraten zu erzielen, was einen präzisen, gleichmäßigen Gasfluss in der Reaktionskammer ermöglicht. Das Modell verfügt auch über einen Plasmagenerator, der hochreaktiven Sauerstoff und Stickstoffplasma produzieren kann. Dies bietet eine erweiterte Ätzratenkontrolle, die eine präzise Entfernung von Funktionen bis zu 0,5 um ermöglicht. P5000 Reaktor kann mit einer Vielzahl von Materialien arbeiten, darunter Metalle, Silizium, Germanium und Polyimide. Seine leistungsstarke Ionenätzung ermöglicht die Feinabstimmung des Ätzprozesses und ermöglicht eine präzise Flusssteuerung und die Steuerung der Funktionsbreite. Das Gerät bietet eine Auswahl an Ätzgasen, die eine genaue Auswahl der Ätzarten ermöglichen, mit Ätzgeschwindigkeiten von 0,3 µm bis 50 µm, je nach Anwendung. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor bietet durch seine fortschrittliche Temperatur-, Druck- und Ätzgasregelung eine hohe Prozessstabilität. Darüber hinaus ermöglicht seine digitale Steuerung eine genaue Ätzprozesssteuerung und Datenprotokollierung. Das Gerät ist für den einfachen Zugriff auf alle Betriebsparameter ausgelegt, einschließlich Temperatur, Druck und Strömung. Dies gewährleistet eine einfache Variation dieser Parameter während des Ätzvorgangs. Die Maschine ist auch in der Lage, eine Vielzahl von Parametern zu überwachen, so dass eine genaue Ätzprozess Reproduzierbarkeit. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor ist ein ideales Werkzeug für die hochpräzise, qualitativ hochwertige Herstellung von Photovoltaik- und Halbleiterbauelementen.