Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #189955 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine Art von CVD-System (Chemical Vapor Deposition), das für das Wachstum von dünnen Schichten auf verschiedenen Substraten als Teil der Herstellung von integrierten Schaltungen, Halbleiterbauelementen und zugehörigen Materialien verwendet wird. AMAT P-5000 wurde speziell entwickelt, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung von dünnen nanoskaligen Filmen mit Submikron-Linienbreite Variation und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über große Substrate bereitzustellen. Die große Prozessflexibilität von APPLIED MATERIALS P 5000 ermöglicht den Einsatz unterschiedlichster Systeme und Komponenten wie Logik-, Speicher-, Display- und Photovoltaik-Geräte. Das Grundkonzept P5000 Systems ist eine Abscheidekammer, die zwischen einer Plasmaquelle und einer Substratkammer angeordnet ist. Das Prozessgas wird in die Kammer eingeleitet und gelangt in die Plasmaquelle, wo es angeregt und in reaktive Spezies zerlegt wird, die dann auf das Substrat gerichtet werden, um Filme zu erzeugen. P-5000 bietet mehrere Vorteile gegenüber anderen CVD-Systemen, einschließlich höherer Durchsatz und verbesserter Leistung durch verbesserte Gleichmäßigkeit und Präzision. Seine prozessorgesteuerte Plasmaquelle hat die Fähigkeit, die HF-Leistung und die Vorspannung unabhängig zu steuern, um Plasmen verschiedener Dichten und Energien zu erzeugen. Dies kombiniert mit einer doppelten Abschirmung, die den Hintergrundpegel von Rauschen und Störungen in der Kammer reduziert, ermöglicht einen verbesserten Durchsatz und hochwertige Folien. AMAT P 5000 hat auch eine verbesserte Temperaturüberwachung und -kontrolle, wodurch Filme mit besserer Gleichmäßigkeit möglich sind. Es verwendet großflächige Heizungen und K-Thermoelemente zur präzisen Temperaturregelung und Überwachung. Zusätzlich bilden die dualen Edelstahlwände der Kammer eine leitfähige Abschirmung, die stabilere Temperaturen, geringere thermische Gradienten und eine höhere Gleichmäßigkeit über großflächige Substrate ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 bietet auch eine gepulste Abscheidungsoption, die die Temperatur und Belastung des Substrats während der Abscheidung reduziert und die Zeit zum Anbau von Filmen erheblich reduziert. Das Pulsieren der Reaktantquelle wird durch die prozessorgesteuerte Plasmaquelle ermöglicht, wodurch die Filmabscheiderate präzise gesteuert und gleichzeitig der Energieverbrauch und die Substratschäden deutlich reduziert werden. Alle diese Funktionen tragen zur Bewertung von P 5000 als Premium-CVD-System unter den Kollegen bei und bieten die beste Kombination aus Leistung und Durchsatz für eine breite Palette von Materialien. Es ist ein ideales Gerät für diejenigen, die einen zuverlässigen und effizienten CVD-Reaktor für ihre Produktionsanforderungen suchen.