Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #191829 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist ein zuverlässiger und vielseitiger Reaktortyp, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. AMAT P-5000 ist eine vertikale, Einzel-Wafer-Thermobearbeitungsanlage mit großer Bearbeitungsfläche. Der Reaktor besteht aus einem hochspezialisierten Vakuumsystem und einer Gasfördereinheit, einer temperaturgesteuerten Prozesskammer und einer leistungsstarken Wafer-Handhabungsmaschine. Das Vakuumwerkzeug von APPLIED MATERIALS P 5000 wurde entwickelt, um Partikelzahlen zu reduzieren und eine saubere Umgebung zu gewährleisten. Es besteht aus einer Konvektionsvakuumanlage, turbomolekularen Pumpen, Tor- und Spezialventilen und einer Reihe von Filtern zur Aufrechterhaltung niedriger Verschmutzungswerte. Das Vakuummodell hat die Funktion, unerwünschte Partikel zu extrahieren und eine saubere Atmosphäre innerhalb der Prozesskammer zu erhalten. Die Gasförderausrüstung von P-5000 verfügt über einen aktiv-rückseitigen Cost-of-Ownership (CO2) -Nachsteigrohrkrümmer und eine leistungsarme, thermisch effiziente Düse. Der CO2-Post-Riser hilft dabei, die Gaszufuhr direkt auf die Waferoberfläche zu steuern. Die niederleistungsfähige, thermisch effiziente Düse soll die Blasenbildung in der Prozesskammer reduzieren und die Genauigkeit und Wiederholbarkeit während des Prozesses gewährleisten. Die Prozesskammer ist mit temperaturgesteuerten Elementen ausgestattet, um eine präzise Temperaturregelung zu gewährleisten. Es hat auch ein fortschrittliches Stickstoff/Argon-Spülsystem, um einen niedrigen Gasdruck aufrechtzuerhalten. Der Reaktor hat die Fähigkeit, bis zu 4 Zoll (10 cm) Wafer zu verarbeiten. Die Oblatenberühreneinheit des P 5000 besteht aus der 3-wegigen Roboterbe-und Entladung, Kassette-zu-Kassette-Überschallreinigung und einer kontaktlosen atmosphärischen Übertragungsmaschine. Das Roboter-Be- und Entladewerkzeug ist für eine effiziente und wiederholbare Handhabung mehrerer Wafer ohne Kontakt mit der Prozesskammer ausgelegt. Die Ultraschall-Reinigungsanlage von Kassette zu Kassette verwendet niederfrequente Niederdruckreinigung, um Wafer zu reinigen und zu inspizieren, die Erträge zu verbessern und die Wiederholbarkeit zu erhöhen. AMAT P5000 ist ein effizienter, zuverlässiger und vielseitiger Reaktor, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es bietet einen hocheffizienten thermischen Prozess, erweiterte Gaslieferfähigkeit, Präzisionstemperaturregelung und genaues Zykluszeitmanagement. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 gewährleistet eine wiederholbare Verarbeitung, saubere Vakuumumgebung und eine effiziente Abgabe der reaktiven Gase.