Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #192914 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hocheffizienter und flexibler Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der bei der Herstellung von mikroelektronischen Komponenten verwendet wird. Dieses System bietet HF-, DC- oder Pulsplasmaabscheidung in einer zuverlässigen Plattform zur direkten Abscheidung auf verschiedensten Substraten, Strukturen und Konfigurationen. AMAT P-5000 Reaktor nutzt die Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasma-Technologie und ist in der Lage, energiereiche 40 Megawatt (MW) ECR-Entladungen zu erzeugen. Darüber hinaus ist ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 mit einem beheizten Differentialpumpensystem verfügbar, das unabhängiges Rühren, programmierbare Geschwindigkeiten des Kammerdrucks und eine gleichmäßige Strömung und gleichmäßige Abscheidung im gesamten gewährleistet. APPLIKATIONSMATERIALIEN P5000 Reaktor arbeitet in einem geschlossenen Kreislauf und kombiniert reaktive Gase mit Plasmaleistung zu einer Vakuum-Prozesskammer, die kontinuierlich durch einen heruntergepumpten Druck evakuiert wird. Diese Umgebung ermöglicht eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Druck, Leistungsdichte und Temperatur und gewährleistet sowohl Wiederholbarkeit als auch reproduzierbare Ergebnisse. Darüber hinaus ermöglichen die integrierten Computersteuerungsfunktionen von APPLIED MATERIALS P-5000 die Echtzeitüberwachung und Einstellung von Betriebstemperatur und Druck innerhalb der Kammer, um optimale Reaktionsbedingungen zu gewährleisten und so die Prozesssteuerung zu verbessern und Laufzeiten zu reduzieren. Die in P-5000 verwendeten Prozessmaterialien werden in einer Vielzahl von Formen bereitgestellt, darunter Wafer, Substrate und Partikel, und können von einigen nm bis zu mehreren mm in der Größe reichen. Dadurch verfügt der AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor über eine Mehrzweckfähigkeit, die eine Abscheidung ermöglicht, die für eine nahezu beliebige keramische Struktur geeignet ist. AMAT P5000 Reaktor ist so konzipiert, dass es benutzerfreundlich ist und Zielabscheidungsstufen für eine Reihe von Anwendungen wie Hochdichtespeicher, komplexe optische Netzwerke und mikroelektrische Schaltungen erfüllt. Das strenge Design gewährleistet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Prozesse, um Qualität und Zuverlässigkeit sowie einen effizienten Umgang mit Ressourcen zu gewährleisten. Darüber hinaus kann AMAT P 5000 mit einer Vielzahl von Gaskombinationen verwendet werden, von Trockenätzen, Oxidätzen, Nitridätzen und ist mit einer Vielzahl von Batch-Ofen-Konfigurationen erhältlich, die komplizierte Ablagerungen verschiedener Materialien ermöglichen. Abschließend ist P5000 CVD-Reaktor ein fortschrittliches Abscheidewerkzeug, das eine Vielzahl von Abscheidefähigkeiten und Prozessmaterialien in einer zuverlässigen und effizienten Plattform bietet. Dieses System wurde entwickelt, um Qualität und Reproduzierbarkeit der Ergebnisse mit präziser Prozesskontrolle zu gewährleisten und ist eine ausgezeichnete Wahl sowohl für Forschung als auch für industrielle Anwendungen.