Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #197548 zu verkaufen

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ID: 197548
Wafergröße: 4"
CVD Systems, 4" Part machines.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein fortschrittliches CVD-Werkzeug für die hochwertige, hochpräzise Abscheidung von dünnen Filmen und Beschichtungen für den industriellen, medizinischen und wissenschaftlichen Einsatz. AMAT P-5000 ist eine Produktionsmaschine, die Folien auf vielfältige Weise abscheiden kann, einschließlich plasmaverstärkter, thermischer und Elektronenstrahlverdampfung. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 bietet eine erschwingliche größere Kammergröße, so dass Folien und Beschichtungen über weite Bereiche wie flache oder gekrümmte Oberflächen aufgebracht werden können. Mit seiner riesigen Kammergröße können APPLIED MATERIALS P5000 zwei oder mehr Produkte gleichzeitig bedienen. Das Design von AMAT P5000 sorgt für hervorragende Beschichtungsqualität, hohen Durchsatz, Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Die fortschrittlichen Hard- und Softwaresysteme ermöglichen eine präzise Abscheidung von Folien bei hohen Substrattemperaturen und einem weiten Kammerdruckbereich. Dies ermöglicht die Abscheidung von Folien in bestimmten Dicken (von 0,1 um bis 10 um). Darüber hinaus ist die Anlage mit einem automatischen In-situ-Kammerreinigungssystem ausgestattet, das Ausfallzeiten und Wartungszeiten insgesamt reduziert. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt zudem über eine automatisierte Maschine zur Gasdosierung und -überwachung. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Gas- und Rezepturparameter, die den Abscheidungsprozess steuern. Eine Reihe von Gasen kann verwendet werden, einschließlich Wasserstoff, Argon, Sauerstoff, Stickstoff und Chlorwasserstoff. Das Werkzeug hat auch die Fähigkeit, Gase zu mischen, um die Optimierung der Beschichtung Gleichmäßigkeit und Profile zu ermöglichen. APPLIED MATERIALS P-5000 ist auch mit einem hochmodernen automatischen Wafer-Mapping-Asset ausgestattet. Dies ermöglicht eine hohe Genauigkeit bei Foliendickenmessungen und ermöglicht es Benutzern, Echtzeit-Waferdaten während der Abscheidung zu überwachen. Dieses Modell kann auch den Abscheideprozess steuern und anpassen, um optimale Ergebnisse zu erhalten. P-5000 verfügt über eine hohe Kompatibilität mit anderen industriellen Werkzeugen und eignet sich daher gut für die plattformübergreifende Integration. Darüber hinaus wird es durch zuverlässigen Kundenservice und ein kompetentes Vertriebsteam unterstützt. Insgesamt ist der AMAT P 5000 Reaktor eine fortschrittliche CVD-Ausrüstung, die hochwertige Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen für industrielle, medizinische und wissenschaftliche Anwendungen bietet. Mit Funktionen wie einem automatisierten Reinigungssystem, einer Gasdosiereinheit und einer Wafer-Kartierungsmaschine bietet P5000 optimale Leistung und effiziente Produktion.
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