Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #197620 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochmoderner CVD-Reaktor, der dünne Filme mit hohem Durchsatz und hoher Gleichmäßigkeit erzeugt. Dieser Reaktor verfügt über eine rotierende Reaktanten-Einführvorrichtung, ein Wafer-Futter-Subsystem und eine apertureturelle verlustarme Abgasanlage. Das Gerät ist mit einer modularen, benutzerfreundlichen Plattform aufgebaut, mit der der Benutzer seine Maschine an seine Anwendungen anpassen kann. Das rotierende Reaktanteinführungswerkzeug von AMAT P-5000 bietet eine gleichmäßige Verteilung der Reaktanden über das Substrat und verbessert so die Gleichmäßigkeit. Dieses Merkmal ermöglicht auch eine präzise Steuerung der Gasverteilung und des Durchflusses. Dies führt zu einer verbesserten Abdeckung des Bodens des Wafers sowie zu einer schnellen Reaktionszeit. Dies kann dazu beitragen, die Abscheidungszeit zu verringern und die Gleichmäßigkeit des Wafers zu verbessern. Das Wafer-Futter-Subsystem ist ein temperaturgesteuertes mechanisches Gut, das eine genaue Temperaturerfassung des Substrats während des Abscheidungsprozesses ermöglicht, um eine Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Die Temperaturregelung des Futters ist nach individuellen Prozessanforderungen anpassbar und das Futter hat einen Temperaturbereich von -50 ° C bis + 400 ° C. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 verfügt zudem über ein aperturelles, verlustarmes Abgasmodell. Diese Anlage maximiert den Abscheidungsdruck und verhindert die Bildung von Partikeln, die die Prozessausbeuten reduzieren können. Die Auspuffanlage ist außerdem so konzipiert, dass sie eine hervorragende Gesamtleistung bei geringen Wartungsanforderungen bietet. AMAT P5000 ist eine flexible und benutzerfreundliche Maschine. Die modulare Plattform ermöglicht eine einfache Anpassung an individuelle Anwendungen, die eine präzise Steuerung der Gasverteilung und -durchflussrate erfordern. Das Tool bietet auch überlegene Gleichmäßigkeit und schnelle Reaktionszeit, Verbesserung des Waferdurchsatzes und Verringerung der Abscheidungszeit. Mit seinem temperaturgesteuerten Wafer-Futter und einer verlustarmen Abgasanlage bietet APPLIED MATERIALS P-5000 eine fortschrittliche CVD-Lösung, die die Waferbearbeitung optimiert.