Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #200769 zu verkaufen

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ID: 200769
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Etcher, 8" (4) Chamber system Chambers: A-D with gas panel (4 etch with transfer chamber); RF Chemicals: N2, Ethylene Glycol, He, Freon, O2, Argon, Carbon Tetrafluoride No pumps 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung für die Abscheidung von dünnen Schichten verwendet. Es ist ein vielseitiges Werkzeug, das eine Vielzahl von Materialien wie Oxide, Nitride und Metalle abscheiden kann. Das System verwendet ein chemisches Verfahren, um dünne Filme von hoher Qualität herzustellen, sowie die Prozesskontrolle und Flexibilität. AMAT P-5000 Reaktor ist eines der beliebtesten CVD-Werkzeuge. Das Gerät ist für die Forschung und Entwicklung sowie die industrielle Produktion hochwertiger Ablagerungen konzipiert. APPLIED MATERIALS P 5000 ist eine vollautomatische Maschine mit einer benutzerfreundlichen grafischen Oberfläche und Touchscreen-Technologie. Es ist entworfen, um in einem Reinraum oder kleinen Labor verwendet werden. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktorwerkzeug besteht aus mehreren Komponenten. Der erste und wichtigste ist der Hauptreaktor, der innerhalb einer Vakuumkammer ruht. Innerhalb des Hauptreaktors werden erhitzte Gase zugeführt und reagieren, um die gewünschten dünnen Filme zu erzeugen. Die Sekundärsysteme umfassen einen Duschkopf zur aktiven Gasförderung, ein Quellplasma zur Erwärmung der Reaktionskammern und verschiedene Detektoren zur Bestimmung der Gleichmäßigkeit der Ablagerungen. APPLIED MATERIALS P5000 Asset ist in der Lage, eine breite Palette von Abscheidungsprozessen. Dazu gehört die physikalische Aufdampfung (PVD) von Metallen, Oxiden und Nitriden. Mit seinem hocheffizienten Betrieb ist der P 5000 Reaktor in der Lage, qualitativ hochwertige Filme mit hoher Gleichmäßigkeit bei minimaler Beanspruchung zu produzieren. Das Modell bietet auch programmierbare Rezepte und erweiterte Prozesskontrolle, so dass Benutzer die Abscheidungsparameter anpassen können, um wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erhalten. P5000 Reaktor ist auch sehr vielseitig einsetzbar, was eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht, wie Sputterabscheidung verschiedener dielektrischer und leitfähiger Materialien, chemisches Aufdampfen von Halbleiterfilmen und Aufdampfen von Polymeren und Polymerverbundstoffen. Als solches ist es weit verbreitet für die Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Technologien. Insgesamt ist der AMAT P5000 Reaktor ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug für die Abscheidung dünner Filme. Es bietet Prozesssteuerung, Flexibilität und wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisse. Mit seiner benutzerfreundlichen Oberfläche und dem automatisierten Betrieb ist P-5000 Ausrüstung die perfekte Wahl für Forschung, Entwicklung und industrielle Produktion von Qualitätsfolien.
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