Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293587249 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 293587249
Wafergröße: 8"
CVD System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Mehrstationen-Plattformsputterreaktor, der für die fortschrittliche Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist Teil der AMAT-Familie von Reaktoren und wird hauptsächlich zur Abscheidung von dünnen Schichten für fortgeschrittene Halbleiterbauelemente verwendet. AMAT P-5000 ist ein Einzelkammersystem mit einer Reihe von Filmabscheidungsprozessen. Es ist in der Lage, Sputter-Abscheidung, Verdampfung und Elektronenstrahl-Verdampfung. Optional können APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 für zusätzliche Dienstleistungen wie chemische Dampfabscheidung und Ionenimplantation verwendet werden. Eine breite Palette von Substraten, einschließlich Silizium, Germanium und Galliumarsenid, können mit AMAT P 5000 verarbeitet werden. Es verfügt über einen 55cm zentralen Drehrevolver und ist mit bis zu vier Sputterkathoden und zwei Verdunstungsquellen ausgestattet. P5000 wird mit einer Ladeschloßkammer und einer Substrathandhabungseinrichtung beladen, um Substrate aus Wafer Carts oder kassettenbeladenen Handler Pods sicher und effizient in die Prozesskammer zu übertragen. Die zylindrische Gestaltung von AMAT P5000 ermöglicht eine gleichmäßige Verteilung der Foliendicke über die gesamte Scheibenoberfläche. Seine Prozessrezepte sind für die mehrschichtige Abscheidung ausgelegt und können eine Schichtdicke von weniger als 0,1 Mikrometer erreichen. P 5000 ist in der Lage, Filme mit planarer Gleichmäßigkeit von +/-2nm, Gleichmäßigkeit der Gesamtdicke von +/-1,5 nm und Gleichmäßigkeit der Linienbreite von +/-1nm zu produzieren. Optional können APPLIED MATERIALS P-5000 mit fortschrittlichen Prozesskontrollmethoden wie Active Magnetron Sputter Deposition (AMS) oder Optical Post Treatment (OPT) eingesetzt werden. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS P5000 auch mit einer robusten Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die den heutigen höchsten Standards für die Bedienersicherheit entsprechen. Sein umfassendes Sicherheitssystem wurde gemäß dem aktuellen ANSI/SEMI Standard NFPA 79 entworfen und alle Sicherheitskomponenten wurden für hohe Zuverlässigkeit konzipiert und es gibt verschiedene Ebenen der manuellen und automatischen Übersteuerung für Notsituationen. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Mehrstationen-Plattformsputterreaktor ein hochentwickeltes und zuverlässiges Abscheidungssystem für die Dünnschichtproduktion. Es ist vielseitig genug, um eine breite Palette von Abscheideprozessen abzudecken und seine Prozessrezepte ermöglichen die Abscheidung von Folien in Dicken von mehr als 0,1 Mikrometer. Darüber hinaus gehören die robusten Sicherheitsmerkmale zu den zuverlässigsten und sichersten Abscheidesystemen, die es heute gibt.
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