Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293604716 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein physikalischer PVD-Reaktor, der speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es wird typischerweise für kritische Anwendungen verwendet, einschließlich der Abscheidung von dünnen Filmen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, hohem Seitenverhältnis (AR) Hardmask Inkjet-Musterung, hochdichte Beschichtung von Nanoskala-Merkmalen und resistive Speicherbildung. Es ist in der Lage, komplexe Schichtstapel mit ausgezeichneter Klappe zwischen Materialien und kontrollierter Stöchiometrie über die Zusammensetzung zu strukturieren und zu verfeinern. AMAT P-5000 verfügt über eine fortschrittliche Steuerungstechnologie, um konsistente Abscheideergebnisse für Serienreihen zu liefern. Es ist ein Mehrzweckdesign, mit einer integrierten CPC-Ausrüstung (Central Process Control) und einem leistungsstarken dreiachsigen geschlossenen System. Der CPC ermöglicht es Benutzern, Prozessparameter zusätzlich zur Steuerung der Sputterabscheidungsrate zu optimieren. Seine Gasströmungsmodelle bieten eine standardmäßige Prozesssteuerung und einstellbare Durchflussraten zur Erzielung der gewünschten Abscheideeigenschaften. Seine thermische Prozesssteuerung ermöglicht eine präzise Steuerung der Platzierung, Temperatur und Gleichmäßigkeit jeder Schicht. APPLIED MATERIALS P 5000 verwendet eine All-Axis-Sputtertechnologie, die effizienter ist und konsistentere Ergebnisse liefert als herkömmliche planare Sputtertechniken. Es hat insgesamt vier Kathoden, zwei Magnetrons und zwei drehbare Säulen. Dies gibt dem Prozessingenieur die Möglichkeit, die Prozesssteuerung über mehrere Ebenen hinweg zu optimieren und dem Endergebnis eine hohe Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit zu verleihen. Die Maschine verwendet auch ein „Mixed-Film“ -Abscheideverfahren, das zu perfekt gleichmäßigen Schichten mit geringer Linienbreite Vorspannung und glatten Seitenwänden führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 können über 50 einzigartige High-Tech-Materialien verarbeiten, darunter Legierungen, Keramiken, Polymere und funktionelle Oxide. Es ist kompatibel mit einer Vielzahl von Substraten, von Standard-CMOS bis zu Verbundhalbleitern. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt auch über ein integriertes RTP- und C4-Prozesswerkzeug, mit dem Anwender Positionsgenauigkeit und hohe Oberflächenprofile für höchste Qualität erzielen können. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ein zuverlässiges und fortschrittliches Abscheidewerkzeug für die Hochleistungs-Halbleiterproduktion. Seine intuitive Prozesssteuerung, kombiniert mit seiner genauen Abscheidetechnologie, liefert qualitativ hochwertige Ergebnisse mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. P 5000 bietet eine effiziente, kostengünstige Lösung für Abscheideprozesse.