Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609326 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine Art von CVD-Ausrüstung, die speziell für die Dünnschichtabscheidung von Feststoffen auf verschiedenen Substraten entwickelt wurde. Es wird in Halbleiterherstellungsverfahren verwendet, um eine konforme und homogene Abscheidung von dünnen Schichten wie Siliziumnitrid oder Siliziumoxynitrid bereitzustellen. AMAT P-5000 Reaktor ermöglicht einen hohen Durchsatz bei guter Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Druckregelung. Dies macht es für mehrere Prozesse und Schichten der Abscheidung geeignet. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor besteht aus drei Hauptkomponenten: dem CVD-Reaktor, einem Vakuumsystem und einer Steuerung. Der CVD-Reaktor ist mit einer elektrostatischen Zersplitterungsdüse ausgestattet, um ein gleichmäßiges Sprühen des Vorläufermaterials zu gewährleisten. Die Vakuumeinheit besteht aus einer Turbo-Molekularpumpe, einer Trägerpumpe und dem Fördergaseinlass und den Auslässen. Der Druck des Reaktors wird durch zwei Massenstromregler gesteuert, die mit dem Ein- und Auslaßrohr verbunden sind. Die Steuermaschine besteht aus einem SPS-Controller mit Touchscreen-Panel, einer programmierbaren Logiksteuerung (SPS) und Speisegas-Durchflussreglern. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 CVD Reaktor ist weit verbreitet in der Halbleiterindustrie für eine Vielzahl von Anwendungen wie Dünnschichtabscheidung von Siliziumnitrid, low-k dielektrische Schichten, Titannitrid, Tantalnitrid, Wolfram und mehr. P-5000 zeichnet sich durch eine hervorragende Abscheidungsgleichförmigkeit aus, was insbesondere für die Abscheidung konformer Dünnschichtschichten wie für Metallisierungsschichten für elektrische Leiterbahnen und für die Abdeckung von Schichten für integrierte Schaltungen von Vorteil ist. Es bietet auch eine breite Palette von Prozesstemperaturen (bis 1100 ° C), hohen Durchsatz und kann für fortgeschrittene Prozesse wie Atomic Layer Deposition (ALD) und chemische Dampfinfiltration (CVI) Abscheidung von thermisch stabilen Materialien verwendet werden. Darüber hinaus ist das Werkzeug wartungsfreundlich und bietet eine breite Palette von Prozessparametern wie Druck, Temperatur und Durchfluss, die angepasst werden können, um die Prozessergebnisse zu optimieren. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P-5000 CVD-Reaktor ein fortschrittliches Gut, das einen hohen Durchsatz und die Abscheidung homogener, gleichmäßiger dünner Filme ermöglicht. Es ist ein zuverlässiger und langlebiger Reaktor und eignet sich für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen.