Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609327 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
Verkauft
ID: 293609327
Wafergröße: 8"
Oxide etcher, 8" MxP+.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine fortschrittliche physikalische Dampfabscheidung (PVD) Reaktorausrüstung, die für die Dünnschichtabscheidung zur Herstellung komplexer struktureller und optoelektronischer Bauelemente in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Dieser Reaktor verfügt über eine integrierte Niedertemperatur-Verdampfungsquelle mit einem Hochtemperatur-Quarzsubstrathalter, der zuverlässige und effiziente Abscheideprozesse ermöglicht. AMAT P-5000 umfasst auch ein innovatives Substratübertragungssystem, das den Transfer von bis zu 20 Wafern pro Minute ermöglicht und kürzere Taktzeiten gewährleistet. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 hat mehrere verschiedene Kammerdesigns, die alle entworfen sind, um Produktivität und Leistung zu maximieren. Das Dual-Pocket-Design ermöglicht sowohl Standard- als auch Mittelfrequenz-HF-Plasma, während das Split-Pocket-Design eine zusätzliche Gasisolierung, eine überlegene Winkelorientierung und eine extrem schnelle Waferübertragung bietet. Alle Kammern sind zudem mit modernsten Temperaturreglern ausgestattet, die eine zuverlässige Prozesssteuerung und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung gewährleisten. APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt auch über mehrere andere fortschrittliche Technologien, wie eine Mehrschicht-Dünnschicht-Abscheideeinheit, die die Abscheidung komplexer Mehrschichten innerhalb des gleichen Prozesses ermöglicht, sowie eine hohe Durchsatz-Chargenofen-Technologie für den schnellen Substrateinsatz. Darüber hinaus umfasst die Maschine eine Reihe von Sensoren, Monitoren und Steuerungssystemen, die dem Bediener eine Echtzeit-Rückkopplung und Diagnosefähigkeit bieten. Dadurch kann der Bediener die Parameter bei Bedarf anpassen und die Prozessstabilität und Zuverlässigkeit erheblich verbessern. Das Tool enthält außerdem mehrere Sicherheitsmerkmale, wie eine automatische Vergrößerung, die Vorstufen bei einem unerwarteten Hochenergie-Plasmabogen automatisch abschaltet, sowie den Batch Reactor Manual Mode, der eine vollständige manuelle Kontrolle über die Badegäste und deren Betrieb ermöglicht. Zusätzlich kann das Modell AMAT P 5000 mit externen Vakuumpumpen wie Heliumpumpen angereichert werden, um saubere Prozessbedingungen zu gewährleisten. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 eine leistungsstarke und zuverlässige PVD-Reaktorausrüstung. Mit seinen verschiedenen Kammerdesigns, fortschrittlichen Technologien und Sicherheitsmerkmalen gewährleistet es präzise und effiziente Abscheideprozesse und garantiert gleichzeitig Prozessstabilität und Zuverlässigkeit.
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