Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609328 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochmoderner Plasmaätzreaktor zum Ätzen von Halbleitermaterialien und integrierten Schaltungen. Dieser Plasmaätzreaktor wurde entwickelt, um präzise und wiederholbare Ergebnisse mit fortschrittlicher Gleichmäßigkeitsleistung zu gewährleisten. Es verfügt über eine fortschrittliche Plasmaquelle, ein Prozesskammerdesign, Wafer-Handhabungssysteme und ein intuitives Steuerungssystem. AMAT P-5000 wurde entwickelt, um hochpräzise und effiziente Plasmaätzverfahren für viele verschiedene Materialien bereitzustellen. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 Plasmaätzreaktor besteht aus einer Prozesskammer, einer Hochfrequenz-Hochfrequenz-Stromquelle, einer Vakuumpumpe und einem Transportroboter. Die Prozesskammer besteht aus Edelstahl und ist hermetisch abgedichtet, um eine kontrollierte Vakuumumgebung zu gewährleisten. Innerhalb der Prozesskammer befinden sich zwei Elektroden, eine in Form eines Substrathalters und die andere in Form eines hohlzylindrischen Magnetrons. Der Substrathalter dient zum Transport des Substrats und zur Versorgung der anliegenden Spannung zwischen ihm und der Magnetronelektrode. Die Magnetronelektrode kann einen oszillierenden Protonenstrahl erzeugen, der die Gasmoleküle innerhalb der Kammer ionisiert. Die Hochfrequenz-HF-Stromquelle liefert die Energie, um das Plasma in der Kammer zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Das Magnetron arbeitet typischerweise mit einer Frequenz von 13,56 MHz, es können aber auch andere Frequenzen verwendet werden. Die HF-Stromquelle enthält außerdem eine Stromversorgung, einen Wellenleiter und ein Anpassungsnetzwerk. Die Stromversorgung liefert die Gleich- und HF-Leistung, und der Wellenleiter und das Anpassungsnetzwerk regeln das Signal, um optimale Plasmabedingungen zu gewährleisten. Die Vakuumpumpe stellt sicher, dass die Kammer frei von unerwünschtem Gas ist und einen Basisdruck von 10-4 Torr bereitstellt. Zur Erhöhung des Durchsatzes wird ein Transportroboter eingesetzt, der die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer Wafer ermöglicht. Darüber hinaus verfügt AMAT P5000 über ein intuitives Steuerungssystem, mit dem Benutzer die Parameter des Ätzprozesses einfach anpassen können. AMAT P 5000 ist ein hochentwickelter Plasmaätzreaktor, der Halbleiter und integrierte Schaltungen mit wiederholbaren Ergebnissen genau ätzen kann. Mit seiner fortschrittlichen HF-Stromquelle, dem Prozesskammerdesign, dem Transportroboter und einem intuitiven benutzerfreundlichen Steuersystem ist P 5000 in der Lage, eine hervorragende Prozessleistung zu bieten.