Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293616570 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Single-Wafer, Hochdurchsatz, Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) Reaktor. Es ist ein vielseitiges System, das für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist, von fortschrittlicher Verpackung und Geräteintegration bis hin zu F&E und Großserienfertigung. AMAT P-5000 bietet eine hervorragende maximale Dosisgleichmäßigkeit und hervorragende Wafer-zu-Wafer-Wiederholbarkeit und ist damit die bevorzugte Wahl für kritische Anwendungen wie TSV, oLEDs, MEMS, FinFETs und 3D-ICs. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 ist mit einem Zweitaschen-Lastschloss ausgestattet, das in der Lage ist, sechs Zoll-Wafer zu verarbeiten, sowie mit einer versiegelten Kammer, die fortgeschrittene Plasmaquellen und magnetische Einschließungsanordnungen enthält. Das Twin-Pocket-Design sorgt dafür, dass Wafer zu vernünftigen Zeiten für einen verbesserten Durchsatz leicht be-/entladen werden. P5000 verfügt auch über eine computergesteuerte Steuerung mit einer benutzerfreundlichen grafischen Oberfläche für einfache Einrichtung, Parametersteuerung und Datenerfassung. Es enthält alle notwendigen Parametereinstellungen, Monitore und Alarme für einen effizienten Betrieb. Mit einem tiefen Kammerdesign und einem einzigartigen kugelförmigen Substrathalter können APPLIED MATERIALS P-5000 Wafer mit voller Reflexion halten, was zu einer optimalen Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit führt. Die leistungsstarke Plasmaquelle und fortschrittliche Magneteinschluss-Baugruppen sorgen für einen homogenen Ionenbeschuss über den gesamten Wafer mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit über seinen Durchmesser. Ein wesentliches Merkmal von AMAT P5000 ist seine Niedrigenergie-Implantationsfähigkeit. Mit einem Strahlenergiebereich von 1-100 keV und einer gesamten On-Wafer-Dosis, die bis zu 600 uC/cm2 reichen kann, bietet APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor branchenführende Implantateffizienz und Ionendosissteuerung. In Kombination mit einer Gleichmäßigkeitsleistung von < 2% eignet sich P-5000 perfekt für anspruchsvolle, hochpräzise Implantationsanwendungen im Automobil-, Medizin- und Unterhaltungselektronikbereich. In Kombination mit seiner strengen Steuerung, Optimierung und Prozesswiederholbarkeit ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 sehr zuverlässig, stabil und effizient für die Implantation von Dotierstoffen in Substrate. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für F&E sowie Hochserienproduktion.