Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293620909 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Plasmareaktor, der die Herstellung und Reinheit von Verbundhalbleitermaterialien verbessert, die in Anwendungen wie Mikroelektronik und Optoelektronik verwendet werden. Unter Verwendung einer einzigartigen, hochdruckgekoppelten Plasmaquelle (ICP) ist der AMAT P-5000 Reaktor in der Lage, hochwertige Halbleitermaterialien mit verbesserter Leistung, höheren Ausbeuten und verbesserten Eigenschaften im Vergleich zu herkömmlichen Niedertemperaturabscheidungstechniken herzustellen. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor ist mit einem einzigartigen, patentierten Design ausgestattet, das überlegene Prozesskontrolle und Gleichmäßigkeit im Vergleich zu traditionellen ICP-Quellen bietet. Die Plasmaquelle nutzt fortschrittliche Kondensator-Technologie, um das Fundament für eine fortschrittliche zweidimensionale Plasmafläche mit höheren Dichten und gesteuerten Teilungswinkeln zu erzeugen. Dies bietet eine größere Vielfalt an gewünschten Prozessparametern und liefert hochwertigere Materialien. Angewandte Materialien P5000 Reaktor verwendet ein Abscheideverfahren, das in der Lage ist, hochwertige, ultrareine Verbindungshalbleitermaterialien wie Galliumarsenid (GaAs), Galliumnitrid (GaN), Indiumgalliumphosphid (InGaP) und andere III-V-Materialien zu erzeugen. Der Reaktor ermöglicht die Dampfphasenabscheidung von Funktionsschichten auf Substraten, die auf Temperaturen von bis zu -20 Grad Celsius (° C) abgekühlt sind, wodurch hochwertige elektrische Kontakte und Graustufen entstehen. Diese fortgeschrittene ICP-Quelle erfordert für eine erfolgreiche Verarbeitung keine Zugabe von Ätz- oder Reinigungsgasen und setzt für eine gleichmäßige Filmabscheidung stattdessen auf einen hohen Abscheideleistungsverbrauch. Dadurch werden auch Abfälle und Verschmutzungen durch Ätz- und Reinigungsprozesse reduziert. Der AMAT P 5000 Reaktor ist mit einer einzigartigen, patentierten Energielösung ausgestattet, die den Energieeintrag während der Abscheidung reguliert und einen einheitlichen und wiederholbaren Abscheidungsprozess ermöglicht. Die Empfindlichkeit des Systems gegenüber veränderten Prozessparametern ermöglicht es dem Anwender, schnelle Anpassungen vorzunehmen und den Abscheidungsprozess schnell zu optimieren. Die Vielseitigkeit und Bandbreite der Prozessparameter, die mit dem Reaktor AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 möglich sind, ermöglicht den Einsatz in verschiedenen Anwendungen wie der Herstellung von LEDs, integrierten Schaltungen und optischen Geräten. P 5000 Reaktor ist mit einem soliden Chassis für maximale Zuverlässigkeit gebaut. Es wird durch umfassende Servicemöglichkeiten für den täglichen Betrieb und die Wartung unterstützt. Zusammenfassend ist AMAT P5000 ein fortschrittlicher Plasmareaktor zur Herstellung von Verbindungshalbleitermaterialien für Anwendungen wie Mikroelektronik und Optoelektronik. Es verfügt über eine einzigartige, Hochdruck-ICP-Quelle, die eine Dampfphasenabscheidung von Funktionsschichten auf gekühlten Substraten sowie eine gleichmäßige und wiederholbare Beschichtung ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ist eine ideale Wahl für hochwertige, ultrareine Materialien mit verbesserter Leistung, höheren Ausbeuten und verbesserten Eigenschaften im Vergleich zu herkömmlichen Niedertemperaturabscheidungstechniken.