Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293622411 zu verkaufen

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ID: 293622411
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1998
CVD System, 6" (4) Chambers Does not include pumps or AMAT-0 heat exchangers 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Atomschichtabscheidungsreaktor im Produktionsmaßstab. Dieser Reaktor ist für die Hochdurchsatzabscheidung von Nitriden, Oxiden und Fluoriden auf großen Substraten ausgelegt. Der Reaktor ist auf einer mehrstufigen Plattform aufgebaut, die die Abscheidung mehrerer Schichten verschiedener Materialien in einem Lauf ermöglicht. Seine Bearbeitungskammer ist aus Edelstahl gefertigt und wird von einem Graphit-Quarz-Suszeptor unterstützt, um eine gleichmäßige Temperatur über den Wafer zu gewährleisten. Der Reaktor wird von einem Quarzkristall Micro Balance (QCM) -Gerät mit einer Zielabscheiderate von 30-200 A/min angetrieben. Die abgeschiedenen Folien sind gleichmäßig dick, konform und lochfrei. AMAT P-5000 verfügt über ein Präzisions-Dual-Level ABC Auto-Kalibriersystem, das die Steuerung der Substrattemperatur mit einer Fehlermarge von bis zu 0,5 ° C ermöglicht. Gekoppelt mit dieser Einheit sind erweiterte Sicherheitsfunktionen, wie Leistungsschalter-Maschine und über/unter Temperaturabschaltung. Diese Sicherheitssysteme schalten den Strom in die Kammer ab, wenn die Temperatur sichere Grenzen überschreitet, wodurch die Gefahr von Waferschäden beseitigt wird. Darüber hinaus sorgt sein optionales Spülwerkzeug für die Detektion und Entfernung von Partikeln und Gasen innerhalb der Kammer, um lochfreie Folien zu erzeugen. APPLIED MATERIALS P 5000 bietet auch ein fortschrittliches Multi-Channel-Gas-Management-Asset. Dieses Modell ist für eine präzise und zuverlässige Steuerung des Abscheideablaufs ausgelegt. Es enthält spezielle Software, die die Auswertung aller Prozessparameter zur Optimierung der Folienqualität und des Durchsatzes ermöglicht. Darüber hinaus ist der AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor flexibel und anpassbar. Der Anwender hat die Möglichkeit, eigene Prozessabläufe einzurichten und Abscheideparameter an seine spezifischen Anwendungsbedürfnisse anzupassen. Insgesamt ist der AMAT P5000 Atomschichtabscheidungsreaktor ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur qualitativ hochwertigen Abscheidung von dünnen Filmen. Es bietet fortschrittliche Sicherheitsfunktionen und präzise Kontrollsysteme, um Qualität und Konsistenz zu gewährleisten. Mit seiner anpassbaren Plattform und der benutzerfreundlichen Schnittstelle ist dieser Reaktor eine ideale Wahl für die Abscheidung von Nitriden, Oxiden und Fluoriden im Produktionsmaßstab.
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