Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293625726 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein vertikaler Diffusionsreaktor, der in der Halbleiterindustrie für eine Vielzahl von Verfahren wie Oxidation, Phosphordiffusion, Bordiffusion und thermisches Glühen weit verbreitet ist. Dieser fortschrittliche Reaktor wurde entwickelt, um Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu erzeugen und gleichzeitig eine schnelle und präzise Prozessausführung zu ermöglichen. AMAT P-5000 Reaktor ist mit einer vertikalen zylindrischen Geometrie mit einer Höhe von 85 Zoll (2,15 Meter), einem Durchmesser von 40,1 Zoll (102cm) und einem Volumen von 45,7 Kubikfuß (1,3 Kubikmeter) ausgelegt. Die Kammer ist aus einer Quarzaußenschale mit Keramikkern aufgebaut, die eine gleichmäßige und wiederholbare Temperatur im Vergleich zu horizontalen Öfen ermöglicht. Die Quarzschale sorgt auch dafür, dass hohe Temperaturen bis 2400 ° C oder 4352 ° F für Hochtemperaturprozesse erreicht werden können. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 verfügt über zwei Quarzheizzonen, die die thermischen Anforderungen für kritische Bearbeitungsschritte messen. Es kann auch mit einer Vielzahl von Quarz- und Metallwaren-Komponenten, wie Aluminiumoxid und Wolframkörbe, für den Einsatz in mehreren Prozessanforderungen ausgestattet werden. P-5000 Reaktor kann für Hochtemperaturprozesse wie Phosphor- und Bordiffusion in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden. Solche Prozesse erfordern eine genaue Kontrolle der Hochtemperaturgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit, was AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor erfüllt. Die Quarzaußenschale gewährleistet eine gleichmäßige Temperatur auf den Wafern innerhalb des Reaktors, während die Keramikkern- und Quarzheizzonen eine genaue Temperaturregelung ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht die vertikale Geometrie des AMAT P5000 Reaktors eine schnelle, konsistente Prozessabwicklung und Kühlzeiten, wodurch kurze Umdrehungszeiten erreicht werden können. Darüber hinaus ist der AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor mit präziser Prozesssteuerung ausgelegt, was bei der Herstellung von Top-Level-Halbleiterprodukten entscheidend ist. Es ermöglicht dem Anwender, präzise Parameter wie Zeit und Temperatur auszuwählen und die Genauigkeit der Prozesse zu erhöhen. Darüber hinaus kann APPLIED MATERIALS P-5000 mit einem PC-basierten Steuerungssystem ausgestattet werden und seine Prozesssteuerungsfunktionen weiter ausbauen. Insgesamt ist P 5000 ein vielseitiger und zuverlässiger vertikaler Diffusionsreaktor, der aufgrund seiner präzisen Temperaturregelung, Konsistenz in der Prozesswiederholbarkeit und hohen Temperaturen von bis zu 2400 ° C oder 4352 ° F in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Erwärmung von Wafern zu ermöglichen und gleichzeitig eine schnelle und präzise Prozessabwicklung zu ermöglichen, wodurch Halbleiterprodukte auf höchstem Niveau hergestellt werden können.