Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293637028 zu verkaufen
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ID: 293637028
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2013
Etcher, 8"
Orient MxP (Optima type)
(3) Poly chambers
Does not include pump or chiller
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine vollautomatische, Mini-Fabulator, Single Wafer Advanced Process Control Reaktorausrüstung für Ätz- und Abscheidungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. AMAT P-5000 bietet mit seiner Kombination aus Präzision, Wiederholbarkeit und Prozesskontrolle mit hoher Ausbeute einen überlegenen Durchsatz. Es ist in der Lage, die Ätz-, Oxidations-, Nitrocarbonisierungs- und Metallabscheidungsparameter zu kontrollieren, um eine Vielzahl von Ätz- und Abscheidungsanforderungen zu erfüllen. Angewandte Materialien P 5000 verwendet eine Kombination aus physikalisch-mechanischen und chemischen Prozessen, um chemische Dampfätzung (CVD) und chemische Dampfabscheidung (CVD) von dünnen Filmen zu erreichen. Im Zentrum des Systems steht seine Fähigkeit, Temperatur, Druck und chemische Zusammensetzung innerhalb der Kammer genau zu steuern und dabei eine Vielzahl von Ätz-/Abscheidungsprozessen durchzuführen. Das Gerät umfasst eine chemische Gasfördermaschine mit Mehrgasmischfunktionen, ein Kammerdruckförderwerkzeug sowie eine physikalisch-mechanische Kammerreinigungsanlage. Das Modell umfasst auch eine Transport- und Web-Handling-Ausrüstung, die sowohl dünne als auch dicke Bahnprodukte unterstützt. P 5000 verwendet eine HF-Plasmaenergiequelle, um Photonen in die Kammer zu pumpen, wodurch die Ätz- und Abscheideraten erhöht werden. Die Kammertemperatur wird durch die Verwendung eines Thermoelements im Leistungs-Erdungssystem konstant gehalten, das die Leistungsabgabe und Rückkopplungssteuerung des Heizelementes einstellt. Mit Hilfe eines Massenstromreglers wird dann die Strömung der Ätzchemikalien in die Kammer eingestellt und dann die CVD-Gase zur Abscheidung der Dünnschicht gebracht. Die Reaktionskammer von P-5000 wird auch zum Ätzen mit Chemikalien wie Wasserstoffperoxid, Fluorwasserstoff und Salpetersäuren genutzt. Die Temperatur der Kammer wird mit einem Thermoelement-Leistungssteuergerät zusammen mit einem Bordcomputer mit eingebetteter Software gehalten, um die Prozessbedingungen zu steuern und zu überwachen. Darüber hinaus verwendet AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ein optisches Emissionsspektrometer, um gasförmige Arten in der Kammer während der Ätz- und Abscheidungsprozesse zu erkennen und zu messen. Insgesamt ist P5000 eine unglaublich robuste und zuverlässige Prozesssteuerungsreaktormaschine für Dünnschichtätzen/Abscheiden und andere Halbleiterprozesse. Das Tool bietet einen überlegenen Durchsatz, Präzision und Wiederholbarkeit, was zu einer durchschnittlichen Ausbeute von 75-90% bei gleichbleibenden Prozessergebnissen führt. Durch die Verwendung von AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 können Halbleiterprozessentwickler und Ingenieure sicher sein, hohe Leistungsergebnisse zu erzielen und gleichzeitig die Zeit und Kosten der Fertigungszyklen zu reduzieren, was zu zuverlässigeren Produkten führt.
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