Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293677299 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Elektronenstrahl-Lithographie-Ausrüstung zum Schreiben von Mustern von nanoskaligen Merkmalen auf Halbleiteroberflächen. Es kombiniert anspruchsvolle Optik und elektronische Abbildungssysteme mit einem hochpräzisen Elektronenstrahl, um Auflösungen bis zu 10nm zu erreichen. Das System basiert auf dem Konzept der Direct-Write-Lithographie, die einen fokussierten Elektronenstrahl nutzt, um steuerbare Nanostrukturen auf einer Waferoberfläche zu erzeugen. AMAT P-5000 verwendet eine einzigartige dynamische Ablenkeinheit, um den Strahl zweidimensional über den gesamten Substratbereich zu bewegen. Der Strahl wird von einer Feldemissionsquelle emittiert und auf 1.2keV beschleunigt. Sie wird dann durch eine elektrostatische Linse fokussiert und durch elektromagnetische Ablenkspulen in den gewünschten Bereich abgelenkt. Die Apertur des Elektronenstrahls bestimmt die Größe und Form des gezeichneten Merkmals und kann mit dem Strahlblanker gesteuert werden. Dieses Gebiet der Lithographie ist als Direct-Write E-Beam Lithographie bekannt, die eine Integration von Merkmalen ermöglicht, die kleiner sind als die über optische Lithographiesysteme erreichbaren. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 produziert Funktionen bis zu 10 nm, indem die Größe, Geschwindigkeit und Dosis des Strahls gesteuert wird. Darüber hinaus hat diese Maschine die Fähigkeit, mehrere Schichten gleichzeitig zu strukturieren und Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll zu verarbeiten. Die Software zur Steuerung des Tools ist extrem intuitiv, so dass Benutzer schnell erfolgreiche und wiederholbare Ergebnisse erzielen können. Diese Software bietet eine Vielzahl von nützlichen Funktionen, wie Simulationen, Konfiguration und Rastermuster, sowie eine umfassende Bibliothek mit vorgeladenen Masken. Digitale Vergrößerungs- und Ausrichtungsfunktionen unterstützen auch den Lithographieprozess. P 5000 ist ein leistungsstarkes Nanofabrikationswerkzeug, mit dem Benutzer Nanostrukturen auf Halbleiterscheiben mustern können. Die dynamische Ablenkung, die fortschrittliche Optik und die intuitive Benutzeroberfläche machen dieses Modell zur perfekten Wahl für die Herstellung von Halbleitern und MEMS.