Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690473 zu verkaufen

Der Reaktor „AMAT/APPLIED MATERIALS P5000“ ist ein einziges Wafer-Prozesswerkzeug, das hauptsächlich in der MEMS und Halbleiterindustrie eingesetzt wird und hochpräzise und hochleistungsfähige Verfahren einschließlich Dünnschichtabscheidung bietet. AMAT P-5000 verwendet eine Vakuumabscheidungsquelle, um dünne Filmschichten auf Siliziumscheiben abzuscheiden. Es ist eine branchenführende Ausrüstung für Halbleiter-, MEM- und optoelektronische Anwendungen. Das System besteht aus einem modularen Aufbau, der bis zu vier Waferquellen ermöglicht, die gleichzeitig in einer 1x2x2-Konfiguration betrieben werden. Das Gerät verfügt auch über eine Robotermaschine für das Substrathandling, die für die Bearbeitung von bis zu 4 „Substraten ausgelegt ist, aber auch 5“ Prozessabläufe ermöglicht. Das in APPLIED MATERIALS P 5000 erhältliche Dünnschichtabscheideverfahren ermöglicht die gleichmäßige Abscheidung des Materials über den gesamten Wafer. Ein weiteres Merkmal dieses Werkzeugs sind die eingebauten Oxidations- und Nitridationsverfahren, die die Abscheidung oxidierter Materialien ermöglichen. Die fortschrittliche dünne Wafer-Technologie von P5000 ermöglicht eine präzisere und gleichmäßigere Abscheidung im Vergleich zu anderen verfügbaren Geräten. Die Anlage ist speziell darauf ausgelegt, bestimmte Dünnschichtschichten so klein wie 10nm anzuvisieren. Die Substratheizungen werden während des Prozesses aktiv gesteuert und auf hohe Temperaturen aufgeheizt, was eine verbesserte Gleichmäßigkeit und gleichmäßige Dünnschichtschichten gewährleistet. Darüber hinaus ist das Modell mit Hochfrequenz-, DC- und Mikrowellenleistungsquellen ausgestattet, die die Synthese komplexer Materialien und Strukturen ermöglichen. Das Gerät ermöglicht einen hohen Durchsatz, da es bis zu 50 Wafer pro Stunde verarbeiten kann. Alle Parameter im Zusammenhang mit dem Abscheidevorgang können über die eingebettete Steuerung gesteuert werden, so dass optimierte Parameter für jeden Abscheidevorgang möglich sind. Darüber hinaus ist die Einheit für eine breite Palette von Substratmaterialien und die Dicke von Substraten ausgelegt. Abschließend ist P 5000 eine fortschrittliche Maschine für Dünnschichtabscheidungsprozesse und speziell für MEMS und Halbleiteranforderungen konzipiert. Es ist ein ausgezeichnetes Werkzeug für Forschung und Entwicklung, da es eine präzise Dünnschichtabscheidung und Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer ermöglicht. Mit Funktionen wie Temperaturregelungssystemen und automatisierter Handhabung ist P-5000 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für Dünnschichtabscheidungen.