Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293758508 zu verkaufen

ID: 293758508
Wafergröße: 8"
Metal etcher, 8" (3) ALCATEL Dry pumps (2) MxP Chambers ASP Chamber Main process modules: Chamber A Metal etch B Strip D Expanded VME Phase III Robot Phase II Cassette Mark II Main frame (29) Slot Storage Elevator Independent helium cooling Sub modules: AC Remote frame Digital cables Analog cables ASTEX Microwave Heat exchanger AMAT ENI 12A RF generators ENI 12B RF generators Emergency interlock cables.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Hochleistungs-Ätzreaktor für die Halbleiterindustrie. Die Anlage ist in der Lage, die für die Geräteherstellung erforderlichen kritischen Prozessschritte einschließlich Ätzen, Abscheiden und Planarisieren bereitzustellen. Es ist für die Herstellung ultraseichter Strukturen optimiert, die für fortgeschrittene Knoten und Geräte der nächsten Generation von entscheidender Bedeutung sind. AMAT P-5000 Reaktorplattform nutzt digitale Scan-Optik, um hochauflösende Gleichmäßigkeit und optimierte Waferdurchsätze in der gesamten Prozesskammer zu gewährleisten. Sie besteht aus einer proprietären Vakuumkammer mit integrierten Gasmodulen, Prozesskammerkomponenten und digitaler Abtastoptik. Diese Komponenten sind auf höchstmögliche Leistung und Zuverlässigkeit ausgelegt. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Ätzreaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Ätzverfahren, einschließlich Siliziumätzen, Wolframätzen und anderen fortschrittlichen Materialien zur Verfügung zu stellen. Das System verwendet eine Vielzahl von Ätzchemikalien, um eine hohe Selektivität und Prozessgleichförmigkeit zu gewährleisten. Das Gerät enthält auch plasmaverbesserte Ätzprozesse für erhöhte Abtragsraten und bessere Gleichmäßigkeit. AMAT P5000 Reaktor verfügt über fortschrittliche Automatisierung und Diagnostik, um hohe Prozessausbeuten zu gewährleisten. Es ist mit einem Echtzeit-Kammerabstimmmodul integriert, das Plasmaparameter überwacht und aktiv auf optimale Prozessleistung einstellt. Es verfügt auch über einen hochauflösenden Verarbeitungsmonitor, um Daten aus der gesamten Palette von Parametern und Sequenzen zu erfassen und zu verarbeiten. P5000 Reaktor ist hochgradig konfigurierbar und kann sich nahezu jeder Prozessanforderung anpassen. Seine softwarebasierte Umgebung ermöglicht es Ingenieuren, Parameter und Programme schnell anzupassen, um eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten. Die Maschine ist in der Lage, volle Redundanz und Hot-Swap-Fähigkeit zu gewährleisten, kontinuierlichen Betrieb und reduzierte Ausfallzeiten. P-5000 Etch Reactor wurde entwickelt, um die strengsten Anforderungen zu erfüllen und ist die ideale Wahl für jede Anwendung, die eine Hochleistungs-Ätzverarbeitung erfordert. Sein zuverlässiges Design und seine fortschrittliche Automatisierung sorgen für hohe Erträge und Gleichmäßigkeit und sind damit die perfekte Lösung für jede Halbleiteranwendung.
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