Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293759466 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine fortschrittliche Abscheideausrüstung, die für eine breite Palette von Prozessen entwickelt wurde, von hochpräzisen Filmen über dielektrische Filme, Fotoresistfolien und andere Spezialfolien für elektronische, optische und andere Anwendungen. AMAT P-5000 bietet komplette Flexibilität zur Steuerung von Prozessvariablen und verfügt über eine fortschrittliche PECVD-Kammer mit Hochleistungs-Plasmaquelle und optimierter Substratbehandlung sowie ein hochgenaues automatisches Substratpositioniersystem. Die Prozesslösungen von APPLIED MATERIALS P 5000 sind auf eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Schrittabdeckung zugeschnitten, reduzieren den Widerstand und optimieren den Stress. Es bietet erweiterten Durchsatz, Einheitlichkeit und Wafer-zu-Wafer Wiederholbarkeit. P5000 ermöglicht die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien, darunter Silizium, Galliumarsenid, Galliumnitrid und Indiumphosphid. Neben den verbesserten Vorteilen bei Gleichmäßigkeit und Schrittabdeckung bietet P 5000 auch eine verbesserte Prozesssteuerung, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit für gewünschte Folien gewährleistet. Seine automatischen adaptiven Prozesssteuerungsalgorithmen bieten Echtzeit-Zugriff auf Abscheidungsparameter und ermöglichen es Benutzern, die Abscheidebedingungen in Reaktion auf Filmkriterien anzupassen und die gewünschten Ergebnisse zu garantieren. Darüber hinaus bietet AMAT P 5000 zusätzliche Flexibilität, da der Bediener die Kammergröße, den Typ und die Materialzusammensetzung inmitten der Filmabscheidung wechseln kann. Die Einheit verfügt auch über ein fortschrittliches, automatisiertes Substrathandhabungs-Subsystem mit automatisierter Schadensprüfmaschine, Temperaturregelung und speziellen Gashandhabungsfunktionen für Spezialmaterialien. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist für den Hochgeschwindigkeitsbetrieb ausgelegt und entspricht allen relevanten Umweltvorschriften der Halbleiterindustrie. Es ist mit Reinluftfiltration und einer passivierten Edelstahloberfläche ausgestattet, die eine chemische Reaktion während des Betriebs verhindert. ANWENDUNGSMATERIALIEN P-5000 bietet wesentliche Vorteile bei der Herstellung von Dünnschichtstrukturen gegenüber herkömmlichen Abscheidungsverfahren wie Sputtern und thermischer Verdampfung. Mit seiner Hochleistungs-Plasma erzeugten Quelle und optimierten Substratbehandlung bietet APPLIED MATERIALS P5000 Gleichmäßigkeit und Abdeckung, verbesserte Filmkontrolle und verbesserten Durchsatz. P-5000 wird in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt, darunter Elektronik, Optoelektronik, Photonik, Datenspeicherung, Medizin und mehr.