Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293760279 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist ein hochleistungsfähiges, gasphasenchemisches Abscheidungssystem für die epitaktische Waferbearbeitung. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er eine präzise Steuerung von Temperatur, Druck, Zeit und Gasfluss und -geschwindigkeiten ermöglicht, was eine überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit ermöglicht. AMAT P-5000 kann für den Anbau von ultradünnen Metall- und Metalloxidfilmen auf einer Vielzahl von Substraten wie Si, Ge, Si/Ge und Si/SiO2/Ge/SiO2 verwendet werden. Es verwendet Ultra-Hochvakuum (UHV) -Technologie, um eine hochreine und stabile Umgebung für nicht-Gleichgewicht verdampfte Ablagerung zu schaffen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 bietet hervorragende Gleichmäßigkeit und Steuerbarkeit von abgeschiedenen Folien und liefert konsistente, wiederholbare Ergebnisse. Die Wachstumsparameter werden präzise über eine Computerschnittstelle abgestimmt, während der integrierte Controller und die benutzerfreundliche Programmiersprache für eine einfache und effiziente Bedienung sorgen. AMAT P 5000 kann auch mit einer Reihe von dynamischen Sensoren ausgestattet werden, die eine Echtzeit-Überwachung des Wachstumsprozesses sowie die In-situ-Charakterisierung abgeschiedener Filme ermöglichen. P5000 ist auch in der Lage, herkömmliche Abscheidungstechniken wie Sputtern und chemische Dampfabscheidung (CVD). Mit seiner Flexibilität ermöglicht AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ein einfaches Wachstum verschiedener Materialsysteme auf einem einzigen Wafersubstrat in einem einzigen Lauf. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS P5000 klein und verbraucht aufgrund seiner konstruktiven Effizienz weniger Energie als herkömmliche Reaktoren. Abschließend ist AMAT P5000 Reaktor ein fortschrittlicher Reaktor, der eine präzise Steuerung von Temperatur, Druck und Gasfluss und -geschwindigkeiten für die Abscheidung von ultradünnen Metall- und Metalloxidfilmen ermöglicht. Es ist kompakt, verbraucht weniger Energie als herkömmliche Reaktoren und bietet Flexibilität bei der Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien auf einem einzigen Wafer. Darüber hinaus machen die eingebauten Controller und die benutzerfreundliche Programmiersprache den Betrieb des Systems problemlos.
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