Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293765825 zu verkaufen

ID: 293765825
CVD System (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für die Herstellung hochvolumiger Halbleiterprodukte entwickelt wurde. AMAT P-5000 ist ein innovatives, effizientes und zuverlässiges Mehrkammer-Produktionssystem, das hochwertige Wafer, Transistoren und Mikrobauelemente herstellen kann. APPLIED MATERIALS P 5000 nutzt einen vollautomatisierten parallelen Produktionsprozess, der hohe Durchsatzleistungen und verbesserte Produktqualität ermöglicht. Sein Hochgeschwindigkeits-Roboterarm bietet präzise, konforme, wiederholbare und effiziente Materialabscheidung, um optimale Produktionsergebnisse zu erzielen. Es ist mit einer hochmodernen aktiven Prozessüberwachungseinheit ausgestattet, die Prozessparameter verfolgt und Außertoleranzbedingungen erfasst. Darüber hinaus kann die Maschine mit bis zu vier Prozesskammern konfiguriert werden und bietet die Flexibilität, bestimmte Kundenanforderungen zu erfüllen. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ultra-high Vakuum-Abscheidungsprozess kann ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Leistung für eine Vielzahl von Substraten bieten. Das Vakuumwerkzeug besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem 8 Zoll mineralisch isolierten Schieber, einer Turbo-Molekularpumpe und einer Ionenpumpe. Alle diese Komponenten sind so konzipiert, dass sie reaktive Restgase blockieren und gleichzeitig eine förderliche Niederdruckumgebung bieten, um eine reibungslose und effiziente Abscheidung von Materialien zu ermöglichen. Der Abscheidevorgang selbst wird durch einen leistungsstarken Drehduschkopf, einen Diamantspitzeninjektor und einen Drehschlaufeninjektor angetrieben. Der Duschkopf hilft, gleichmäßige Emitterraten entlang der Waferoberfläche zu erhalten. Der Diamant-Spitze-Injektor kann höhere Abscheidegeschwindigkeiten zur dickeren Schichtbildung liefern. Schließlich trägt der Drehschlaufeninjektor dazu bei, den Abscheidevorgang gleichmäßig zu gestalten. Alle drei Abscheidungsmethoden gewährleisten Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit, was zu einer verbesserten Schichtdickengleichförmigkeit führt. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über eine branchenführende Prozesskonformität, die optimale Prozessergebnisse ermöglicht. Dieses fortschrittliche Prozessüberwachungsmodell bietet Echtzeit-Prozessverfolgung und Fehlererkennung. Es hilft auch bei der Aufrechterhaltung der Produktionskonsistenz, indem es Feedback zu etwaigen Out-of-Tolerance-Bedingungen für Prozessparameter gibt, die zu einer Verringerung der Ausbeute oder einer erhöhten Ausschussrate führen könnten. Insgesamt ist AMAT P5000 ein vielseitiges, zuverlässiges und robustes CVD-Werkzeug für die Herstellung von hochvolumigen Halbleiterprodukten. Mit seiner Hochgeschwindigkeitsproduktionsfähigkeit, seiner hervorragenden Abscheidungsgleichmäßigkeit und Prozesskontrolle ist APPLIED MATERIALS P-5000 die ideale Lösung für Produkte höchster Qualität.
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