Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293823309 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 293823309
CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein von AMAT, Inc. Dieser hochentwickelte Reaktor ist für den Einsatz in einer Vielzahl von hochdichten Plasma (HDP) -Prozesstechnologien wie Ätzen, Abscheiden und Halbleiterbauelementherstellung konzipiert. Häufig in Forschung und kommerziellen Anwendungen verwendet, ist der Reaktor in der Lage, Hochdurchsatz, präzise und wiederholbare Verarbeitung einer breiten Palette von Materialtypen. Dies ermöglicht Kosteneinsparungen gegenüber herkömmlichen Methoden und gewährleistet die Konsistenz der Ergebnisse. AMAT P-5000 Reaktor ist ein Dreikammergerät mit HF-Leistungsmodul, Hauptkammer und Pumpe. Das HF-Leistungsmodul enthält den HF-Hauptgenerator, ein Anpassungsnetzwerk, einen optimierten Impedanztuner und andere elektrische Geräte. Das passende Netzwerk, das Signale von der Antenne an den Sender anpasst, sichert und optimiert den Ausgang des HF-Generators. Dieses Element ist von besonderer Bedeutung, da es eine konsistente, vorhersagbare HF-Leistung gewährleistet. Der optimierte Impedanztuner beinhaltet eine Auto-Tuner-Funktion, die für das On-the-Fly-Tuning verwendet werden kann und verwendet wird, um die Antenne während der Verarbeitung maximal mit Strom zu versorgen. Die Hauptkammer des APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktors beherbergt die Festkörperantennenanordnung. Diese Baugruppe besteht aus drei Spulen, die auf drei getrennten Rändern montiert sind und dazu ausgelegt sind, Plasma in der Kammer zu verbreiten, während sie die gesamte Oberfläche bedecken. Durch die präzise Platzierung der Spulen und den Einsatz paralleler Platten erzeugt die Antenne ein Plasma hoher Dichte mit sehr dünnen, gleichmäßigen Schwaden. Die Antennenfeldstärke ist einstellbar, um die Plasmaintensität zu erhöhen oder zu verringern, wodurch Prozesse wie Abscheidung, Ätzen und Bonden mit größerer Kontrolle durchgeführt werden können. In der Hauptkammer befindet sich auch das Gasfördersystem, das mehrere Gasarten in die Kammer einspritzen und mischen kann. Diese Gasfördereinheit soll eine homogene und stabile Umgebung schaffen, in der eine Plasmabearbeitung erfolgen kann. Darüber hinaus beherbergt die Hauptkammer der ANGEWANDTEN MATERIALIEN P-5000 verschiedene Materialien und Isolierungen der Luft- und Raumfahrt, die eine hohe Bauqualität und Haltbarkeit gewährleisten. Die Pumpmaschine von AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor ist verantwortlich für die Entfernung von Partikeln und Gasen aus der Kammer nach Abschluss des Prozesses. Das Pumpwerkzeug ist eine der wichtigsten Komponenten des Reaktors, da ohne eine richtige Gas- und Partikelpumpe eine begrenzte Wiederholbarkeit und erhebliche Plasmaverluste auftreten würden. Die Pumpenanlage ist hoch fortgeschritten und umfasst eine einstellbare Pumpenrate und Drehzahlregelung für Partikel sowie mehrere Gasregelventile für unterschiedliche Pumpendrehzahlen. P 5000 Reaktor ist ein hochentwickeltes Verarbeitungsmodell, das unter Berücksichtigung von Experimenten und Produktionsprozessen gebaut wurde. Mit seinem leistungsstarken HF-Leistungsmodul und dem optimierten Impedanztuner, der Multi-Magnetron-Antenne und der hocheffizienten Gas- und Partikelpumpenausrüstung ist APPLIED MATERIALS P5000 in der Lage, konstante, qualitativ hochwertige Ergebnisse zu einem Bruchteil der Kosten herkömmlicher Methoden zu erzielen. Darüber hinaus können die Reaktoren einfach für bestimmte Prozesse angepasst werden und sind somit eine optimale Wahl für den Einsatz in vielen Forschungs- und kommerziellen Anwendungen.
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