Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9027761 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9027761
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1991
CVD SiN system, 8" (4) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Reaktor zur Herstellung von Halbleiterscheiben. Zu den Merkmalen gehören ein beheiztes Gehäuse, eine Gasförderausrüstung mit variabler Geschwindigkeit und eine Temperaturregelung. Die Außenwände des Reaktors bestehen aus einer ungiftigen Legierung, die der Korrosion widersteht und das Innere des Reaktors stabil hält. Zur Optimierung der Strömung unterschiedlicher Gase zum Substrat wird ein Gasfördersystem mit variabler Rate eingesetzt. Dadurch wird eine verbesserte Abscheiderate geschaffen, die in der Lage ist, den gewünschten Folientyp herzustellen. AMAT P-5000 ist für den Betrieb in verschiedenen Temperatur- und Druckbereichen ausgelegt. Es verfügt über einen einstellbaren thermischen Zykler, der sich an die thermischen Anforderungen des Substrats anpasst. Der thermische Zykler stellt auch ein Temperaturregelelement für das Substrat bereit. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 bietet mit seinem schnell ansprechenden gepulsten thermischen Regler eine gleichmäßigere Abscheiderate und eine verbesserte Temperaturregelung. Diese Technologie sorgt für konsistente und wiederholbare Ergebnisse. Das Gerät umfasst auch einen Druckmonitor, der zur Überwachung der Substrattemperatur während des Abscheideprozesses dient. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt auch über eine Prozesssteuerungsmaschine, die zur Überwachung der Gleichmäßigkeit des Substrats während eines Abscheidungsprozesses ausgelegt ist. Dadurch kann der Prozess auf die jeweilige Anwendung zugeschnitten werden. Darüber hinaus nutzt AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 auch die Regelungstechnik, die eine höhere Präzision gegenüber herkömmlichen Methoden bietet. Dieses fortschrittliche Werkzeug zur Prozesskontrolle verbessert die Produktqualität und optimiert die Erträge. Die Gesamtgröße und das Gewicht von P5000 ist relativ klein und leicht und somit ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Fertigungs- und Forschungsanwendungen. Es ist eine ideale Wahl für Halbleiter- und Optoelektronik-Hersteller, die einen fortschrittlichen Prozessreaktor benötigen, der wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse erzielen kann.
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