Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9040992 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Hochleistungs-Plasmareaktor der nächsten Generation, der für überlegene Prozessleistung und Zuverlässigkeit in fortschrittlichen Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Diese Art von Reaktor, auch bekannt als High Density Plasma (HDP) Reaktor, verwendet magnetisch verbessertes Plasma zur Verbesserung der Abscheidungsrate, Dünnschicht-Gleichförmigkeit, dielektrische und Metallabscheidungseigenschaften. AMAT P-5000 HDP-Reaktor verfügt über eine Reihe von Hauptmerkmalen, die ihn zu einem wertvollen Kapital für Geräte- und Materialinnovationen in der Halbleiterindustrie machen, darunter: Mehrofendesign: Dieses patentierte Design verwendet eine Mehrofenkonstruktion, um eine konstante und gleichmäßige Erwärmung des Wafers zu gewährleisten. Dieses Merkmal ist entscheidend für die wiederholbare und genaue Abscheidung von Materialien auf dem Wafer. Niedertemperaturbetrieb: ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 hat einen Niedertemperaturbetriebsbereich, der eine schnellere Abscheidung und hohe Materialkompatibilität mit Standard- und Low-K-Geräteherstellung ermöglicht. Hypergenaue Temperaturregelung: Um die Temperaturgenauigkeit von P-5000 weiter zu verbessern, verwendet der Reaktor ein hypergenaues Temperaturkontrollsystem, um eine präzise und wiederholte Materialabscheidung zu gewährleisten. Kompatibilität mehrerer Substrate: Dieser Reaktor ist hochkompatibel mit verschiedenen Substratmaterialien und ermöglicht eine überlegene Abscheidung sowohl dielektrischer als auch metallhaltiger Materialien. Hochdichtes Plasma: P 5000 HDP-Reaktor verwendet magnetisch verbessertes Plasma, das die Abscheidungsrate, die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtschicht und die Eigenschaften der dielektrischen/Metallabscheidung erhöht. Ferndiagnose: Dieser Reaktor bietet Ferndiagnosefunktionen, die eine Echtzeit-, Vor-Ort-Fehlerbehebung und Wartung der Maschine ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 HDP-Reaktor ist ein leistungsstarker Reaktor der nächsten Generation, der in der Lage ist, eine überlegene Abscheidung und Materialinnovation in der Halbleiterindustrie durchzuführen. Der Zusatz eines magnetisch verbesserten Plasmas verbessert die Abscheidungsrate, Gleichmäßigkeit und Materialverträglichkeit und macht AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ideal für die präzise und wiederholbare Verarbeitung von Materialien auf einer Vielzahl von Substraten. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 HDP-Reaktor ist mit seinem Niedertemperaturbetrieb, der präzisen Temperaturregelung und der Ferndiagnose ein leistungsstarker Reaktor, der überlegene Leistung und Zuverlässigkeit liefert.