Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056702 zu verkaufen

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ID: 9056702
Weinlese: 1999
PECVD System, 8" Mark II P5000 mainframe (4) Chambers 15 slot storage elevator 8” Cassette Handler Bolt down load luck lid with purge Phase III robot Remote Rack with (2) ENI OEM 12B 13.56Mhz generators Steelhead Heat Exchanger Thru the wall interface with (2) monitors: (1) TTW, (1) stand alone PLIS Cabinet PLIS Minicontroller DPS generator rack with ENI DPG-10 Generator and DPA Interlock board Chamber A: Universal PECVD chamber Cluster Throttle valve Gold Style Lamp module Phase IV RF match Dual manometers with 100/1000 Torr manometers Unit 1660 MF calibrated to customer spec STEC LF-410 LFM’s and 2410 injectors calibrated to customer spec Chamber B: Standard PECVD chamber Cluster Throttle Valve Gold Style Lamp Module Phase IV RF Match Dual manometers with 10/1000 Torr manometers 1660 MFC’s calibrated to customer spec 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine Hochleistungsverarbeitungsanlage, die speziell für die Abscheidung, Ätzung und andere verwandte Dünnschichtverarbeitung von Halbleiter, Dünnschichthalbleiter und magnetischem Material entwickelt wurde. Dieses Werkzeug wird sowohl für Serien- als auch F & E-Anwendungen eingesetzt. AMAT P-5000 Reaktor verfügt über ein Laser & optisches Prozessmodul und einen fähigen CPU/DSP-basierten Controller. Das Laser- und optische Prozessmodul ist ein 6-Achsen-Bewegungssystem mit einer linearen Vakuumkammer, die auf einer präzisen linearen Schiene montiert ist und eine genaue und wiederholbare Bewegung ermöglicht. Das Laser & Optische Prozessmodul besteht aus einer hochauflösenden Lasereinheit, einer Fokuskamera sowie Glasfaser- und Laserkommunikation. Der CPU/DSP-basierte Controller bietet eine programmierbare Steuerung von Parametern wie Gasen und Einsatzmaterial, HF- und DC-Vorspannung, Wafertemperatur, Zeit, Energie und Beschleunigung. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor verfügt auch über eine Konvektionsmaschine, die in der Lage ist, mehrere Temperaturen über einen großen Bereich von Verarbeitungsbedingungen bereitzustellen. Es ist mit mehreren Gasverteilungssystemen ausgestattet, wie einem Hochgeschwindigkeitsmassenstromregler und einem Niedergeschwindigkeitsmassenstromregler. Das Gasverteilungswerkzeug hilft, die zeitliche und räumliche Verteilung der Reaktantenarten im Reaktor zu steuern. Hochfrequenz (RF) und Gleichstrom (DC) Vorspannung können auch während der Verarbeitung angewendet werden, so dass die Erzeugung von aktiven Arten in der Reaktion. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor hat auch eine Reihe von prozeßfördernden Eigenschaften. Im Modell ist eine Hochvakuum-Abgasanlage enthalten, die eine schnelle und effiziente Evakuierung von Reaktionsnebenprodukten ermöglicht. Darüber hinaus ist die Ausrüstung für die schnelle Entnahme von Wafer-Proben ausgelegt, die eine kontinuierliche Verfeinerung und Verbesserung des Prozesses ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist ein wirksames Werkzeug zur Erzielung überlegener Leistung bei der Abscheidung, Ätzung und anderen verwandten Dünnschichtverarbeitung von Halbleiter, Dünnschicht-Halbleiter und magnetischen Materialien.
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