Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058265 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Hochleistungs-Plasmaätzanlage mit hoher Kapazität, die speziell auf die Anforderungen der modernen Halbleiterproduktion ausgerichtet ist. AMAT P-5000 nutzt fortschrittliche optische und HF-Technologie, um mit kontrollierten Ätzprofilen eine hohe Mustergenauigkeit und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Dieses System ist in der Lage, bis zu 20 Wafer pro Stunde mit einer Auflösung von 15 nm zu ätzen. APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über eine integrierte integrierte Gasfördereinheit, die die volle Kontrolle über den Plasmaprozess ermöglicht, einschließlich automatisches Gasmanagement und Endpunktbestimmung. Dies ermöglicht eine höhere Flexibilität und Kontrolle der Ätzchemie für verbesserte Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit. P-5000 ist mit einer fortschrittlichen Automatisierungssuite ausgestattet, die eine detaillierte Überwachung und Analyse der Ätzprozesse ermöglicht. Dies ermöglicht eine Optimierung des Prozesses, um den Durchsatz zu maximieren. Es bietet auch integrierte Selbstdiagnosefunktionen, die die Prozessparameter automatisch überprüfen und anpassen. APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt zudem über eine Doppelkammer-Konstruktion, die einen möglichst hohen Durchsatz sowie eine verbesserte Prozessstabilität ermöglicht. Die Kammern sind so konzipiert, dass sie die beste Kühlung für die Wafer bieten und das Risiko von Dielektrikum- und Plasmaschäden reduzieren. Die Doppelkammern ermöglichen auch eine maximale Gasnutzung und sorgen für Gleichmäßigkeit über die Wafer. P5000 ist auch mit einer fortschrittlichen optischen Diagnosemaschine ausgestattet, die eine on-the-fly OPC-Verarbeitung ermöglicht. Dies gewährleistet genaue und wiederholbare Ätzmusterergebnisse. Schließlich ist AMAT P5000 mit einer Rüststation, einer Bereinigungsstation und einem In-situ-Messtechnik-Tool integriert. Dadurch wird der höchste Durchsatz und die Gleichmäßigkeit der Wafer gewährleistet. Die Setup-Station sorgt für eine präzise Waferorientierung und bietet eine benutzerfreundliche Touchscreen-Schnittstelle zum schnellen Be- und Entladen von Wafern. Das in-situ Messtechnik-Asset scannt Wafer auf Datengenauigkeit und liefert eine präzise Rückmeldung zum Prozesssteuerungsmodell. Insgesamt ist P 5000 ein hochentwickeltes Prozesswerkzeug, das den Anforderungen der modernen Halbleiterproduktion gerecht wird. Mit fortschrittlicher optischer und HF-Technologie, einem Dualkammer-Design, einer integrierten Gaszufuhrausrüstung, einer Plasmakontrollautomatisierungssuite und einem In-situ-Messtechnik-System ist dieses Gerät in der Lage, höchste Qualität und Durchsatz in einer Produktionslinie bereitzustellen.