Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058266 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist ein fortschrittlicher plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD), der sehr effizient und zuverlässig ist. Dieses Werkzeug ermöglicht große Prozesskammern, ein hohes Maß an Substratgleichförmigkeit und enge Innenwafergleichförmigkeit. AMAT P-5000 Reactor verwendet auch Niederdruckbetrieb, um den Durchsatz zu erhöhen und gleichzeitig die Waferbelastung zu minimieren und eine verbesserte Foliengleichförmigkeit zu gewährleisten. Zu den Hauptkomponenten von APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor gehören eine Plasma-Cluster-Quelle, ein induktiv gekoppeltes Zweispulensystem und eine Niederdruck-Prozesskammer. Die Plasma-Clusterquelle verwendet eine Reihe von parallel geschalteten Kondensatoren, die drei drahtumhüllte Elektrodensegmente mit hoher Dichte enthalten. Diese Elektrodenkonfiguration erzeugt einheitliche, hochleistungsfähige Plasmacluster, die für PECVD optimiert sind. Das induktiv gekoppelte Zweispulensystem verfügt über eine große Mittelelektronenstrahlspule, um große stabile Plasmafelder zu erzeugen, und eine kompaktere umgebende Spule, um die notwendige Leistung für den Prozess dicht und präzise zu liefern. Die Niederdruck-Prozesskammer verfügt über eine einteilige balgförmige Konstruktion, die eine breite Gleichmäßigkeit über den Wafer und die Gleichmäßigkeit innerhalb des Wafers ermöglicht, indem Komponenten minimiert werden, die Hot Spots erzeugen könnten. Der Niederdruckbetrieb der Kammer ermöglicht auch höhere Durchsatzraten. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor bietet Hochgeschwindigkeits-Abscheideraten, einheitliche Substratabdeckung, eine breite Palette von Prozessbedingungen und Kompatibilität mit einer Vielzahl von PECVD-kompatiblen Materialien. Dieses Werkzeug ist eine ideale Lösung für die Herstellung von Wafern mit enger kritischer Dimensionskontrolle und niedrigen Defektpegeln. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor kann verwendet werden, um eine Reihe von fortschrittlichen Beschichtungen zu produzieren, einschließlich Dielektrika und Metalle auf Siliziumbasis. Dieses Tool kann auch helfen, Nanostrukturen, ultraempfindliche Gase Sensoren und andere Arten von nanoskaligen Architekturen zu erstellen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 Der Reaktor ist auf Leistung, Zuverlässigkeit und Wirtschaftlichkeit optimiert. Dieses Tool ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterhersteller, da es eine enge Gleichmäßigkeit und einen ausgezeichneten Durchsatz bietet. Darüber hinaus ist die Niederdruck-Prozesskammer und das induktiv gekoppelte Zweispulensystem ideal für die Erzeugung kritischer Schichten mit Gleichmäßigkeit über das Substrat.