Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9069051 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein physikalischer PVD-Reaktor, der für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es bietet eine zuverlässige und kostengünstige Plattform für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen sowie Serienanforderungen. AMAT P-5000 PVD-Ausrüstung besteht aus vier Hauptkomponenten: einem mechanischen Gehäuse, einer Vakuumkammer, einer Gasleitungsanordnung und einer Plasmasteuerung. Um die Prozesssteuerung zu erleichtern, ist das System mit einem erweiterten Touchscreen Graphical User Interface (GUI) ausgestattet. Mit dieser grafischen Oberfläche können Anwender APPLIED MATERIALS P 5000 problemlos auf individuelle Prozessanforderungen konfigurieren. Das ultrabeständige mechanische Gehäuse aus Edelstahl von P-5000 bietet eine saubere Vakuumumgebung für optimale Prozessgenauigkeit und Leistung. Ein einziger Türeingang ist vorgesehen, um den Zugang zu den zu verarbeitenden Materialien innerhalb der Vakuumkammer zu erleichtern. Eine integrierte Gasfördereinheit ermöglicht den optimierten Fluss von Prozessgasen, die zur Fertigungsumgebung notwendig sind. Die Vakuumkammer von AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ist durch ihre fortschrittliche mehrwandige Konstruktion hocheffizient und zuverlässig. Diese mehrwandige Konstruktion ermöglicht eine signifikante Verbesserung der Wärmeleitfähigkeit, liefert optimale Gleichmäßigkeit und konstant wiederholbare Waferproduktionsergebnisse. Die Plasmasteuerung von APPLIED MATERIALS P-5000 ist mit einer Vielzahl von leistungsstarken Automatisierungsfunktionen ausgestattet. Dazu gehört die Steuerung des Waferflusses, die Selbstdiagnose, die Konfiguration von Prozessrezepten und die manuelle Steuerung. Dieses Gerät enthält auch eine einzigartige automatische Nivellierungsfunktion, um die genauesten Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Schließlich ist AMAT P5000 mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um den sicheren Betrieb der Maschine zu gewährleisten. Dazu gehören eine automatische Werkzeugabschaltung, ein Notabschaltschutz und ein optionaler Monoxidschutz. Insgesamt wurde AMAT P 5000 entwickelt, um eine effiziente, zuverlässige und kostengünstige Plattform für fortschrittliche Halbleiteranwendungen bereitzustellen. Die Anlage ist ideal für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen sowie Serienanforderungen. Es ist mit einer Reihe von fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, um konsistente wiederholbare Waferproduktionsergebnisse und einen zuverlässigen Betrieb auf sichere und effiziente Weise zu gewährleisten.
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