Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9077991 zu verkaufen

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ID: 9077991
Wafergröße: 8"
Nitride PARC PECVD system, 8" (4) CVD Chambers (4) Heater lamps Gas Showerhead box Wafer sense Robot Storage elevator Ergo cassette loaders Unit 1660 MFC’s (4) RF Matching networks (4) ENI RF Generators DMC Rack Lamp modules Electrical and pump rack RIF Rack (2) EDOCS With rack Mini controller Monitor rack Heat exchanger MFC Tool cables Missing: Some process kits Mouse Manual.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine fortschrittliche chemische Dampfabscheidung, die für die präzise Abscheidung von ultradünnen Filmen entwickelt wurde. Dieses vielseitige Werkzeug ist ideal für die Abscheidung von Dielektrika, Metallen, Oxiden, Nitriden und Polysiliziumschichten. AMAT P-5000 ist mit seinem hohen Durchsatz und seiner hervorragenden Gleichmäßigkeit eines der leistungsstärksten Werkzeuge für anspruchsvolle Abscheidungsanwendungen. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor bietet überlegene Gleichmäßigkeit und Homogenität über große Waferoberflächen. Es ist mit einer Hochleistungs-Elektronenstrahlkanone ausgestattet, die schnelle Abscheideraten ermöglicht. Diese Elektronenstrahlpistole arbeitet mit Leistungen bis 5000 Watt, wodurch Abscheideprozesse schnell und mit überlegener Gleichmäßigkeit abgeschlossen werden können. Die Flexibilität von APPLIED MATERIALS P-5000 ermöglicht es Anwendern, Zeit- und Leistungseinstellungen einzustellen, um eine optimale Folienqualität zu erzielen. Das System ist mit einer Keramikkammer ausgestattet, die eine flache Bodenausführung aufweist. Diese Konstruktion sorgt für eine erhöhte Gleichmäßigkeit im Abscheideprozess und sorgt für eine gleichmäßige Dicke der Folie. Das Flachboden-Design eliminiert auch interne mechanische Reflexionen und eliminiert Schatten und sorgt für perfekte Gleichmäßigkeit. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 reactor verwendet hochreine, hochreine Rohstoffe zur Abscheidung. Seine In-situ-Gasfördereinheit ist für eine präzise Steuerung der Kammerbedingungen ausgelegt, wodurch eine genaue Rohstoffmenge innerhalb des Kammerraums für eine optimale Prozessstabilität gewährleistet ist. Eine breite Palette von Standard- und kundenspezifischen Rezepten ist auch für die optimierte Abscheidung von Dielektrika, Metallen, Oxiden und Polysiliziumschichten verfügbar. Hinsichtlich Sicherheit und Leistung ist P5000 Reaktor mit verschiedenen Sicherheitssystemen ausgestattet. Dazu gehören eine Leistungsüberwachungsmaschine, ein Halogengasüberwachungswerkzeug, eine Gasentladungsanlage, ein Drucklecksucher und ein Durchflussmesser. Darüber hinaus ist P-5000 Reaktor auch mit einem fortschrittlichen Überwachungsmodell ausgestattet, das Echtzeitinformationen über Kammerbedingungen und Leistung liefert. AMAT P5000 Reaktor ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für die Abscheidung von ultradünnen Filmen. Mit seinem hohen Durchsatz und seiner ausgezeichneten Gleichmäßigkeit bietet P 5000 überlegene Abscheidefunktionen und eine breite Palette von Prozessoptionen. Dieses leistungsstarke Werkzeug ist ideal für anspruchsvolle Abscheidungsanwendungen und kann hochreine, hochreine Rohstoffe zur Abscheidung verarbeiten. AMAT P 5000 ist ein fortschrittliches Prozesswerkzeug für Präzision und optimierte Filmabscheidung.
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