Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083285 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083285
Weinlese: 1993
PECVD system Process: SiO7, SiN 1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochmoderner Reaktor für fortschrittliche Forschung und modernste Fertigungsverfahren in der Halbleiter-, Nanoelektronik- und MEMS-Industrie. Dieses fortschrittliche Bearbeitungswerkzeug wurde entwickelt, um die Flexibilität des eigenständigen chemisch-mechanischen Polierens und der Planarisierung mit der Kraft des fortschrittlichen Ätzens und Abscheidens zu kombinieren. AMAT P-5000 kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Spielgrößen mit Filmdicken zwischen 1 und 10 Mikrometer zu schaffen. Die Geräte sind mit einzelnen Wafer- und Batch-Verarbeitungsfunktionen ausgestattet, so dass sie ein Höchstmaß an Prozessflexibilität, Effizienz und Wirtschaftlichkeit bieten können. Der Reaktor kann Substrate von bis zu 300 mm Größe und von Wafern von 200mm bis 150 mm Dicke verarbeiten. Darüber hinaus verfügt das System über einen maximalen Verarbeitungsdruck von 8 bar, mit einstellbaren HF-Frequenzen bis zu 25MHz für die Strom- und Gaszufuhr. APPLIED MATERIALS P 5000 zeigt viele Eigenschaften, wie genaue Temperaturkontrolle für die genaue Anlageüberwachung, eine variable Kombination von Plasmaquellen für den optimalen Gasdurchfluss, die automatische harmonische Plasmakontrolle für das verbesserte Ätzen, Mehrressource Substratbehandlung auf höchster Ebene und die letzten hochtechnologischen Substratoblatentechnologien. Zusätzlich ist der Reaktor mit einer kompakten Kammer ausgestattet, die einen effizienten Betrieb auf engstem Raum ermöglicht. APPLIED MATERIALS P5000 bietet auch gegenüber herkömmlichen Chargenverarbeitungssystemen viele Vorteile. Die Maschine ist in der Lage, eine breite Palette von Materialeigenschaften mit totaler Kontrolle über Temperatur, Druck, Prozesszeit und Gaszusammensetzung zu produzieren. Zusätzlich verfügt das Werkzeug über eine automatische harmonische Impulssteuerung zur verbesserten Ätzung. Dieses fortschrittliche Bearbeitungswerkzeug ermöglicht es Benutzern, Dünnschichtschichten mit größerer Präzision zu erstellen und gleichzeitig höchste Qualität und Prozesskonsistenz zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet die Anlage eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen, wie eingebaute Sicherheitsmechanismen, mehrschichtige Isolierung und ein robustes Lecksuchmodell. Insgesamt ist P5000 ein extrem fortschrittlicher Reaktor, der die höchste Prozesskontrolle und Flexibilität für branchenführende Prozesse bietet. Dieser leistungsstarke Reaktor bietet eine Vielzahl von Funktionen, darunter eine präzise Temperaturregelung, einstellbare HF-Frequenzen und eine breite Palette von Sicherheitsfunktionen. Die Ausrüstung ist stark und zuverlässig und bietet höchste Effizienz und Wirtschaftlichkeit.
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