Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083304 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083304
Weinlese: 1995
PECVD system Process: SiO, SiN 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Hochleistungs-Plasmaätzreaktor, der von AMAT patentiert wurde. Es ist ein modernes Gerät, das die Mikrofertigung von integrierten Schaltungen und anderen elektronischen Komponenten ermöglicht. Der Reaktor ist für selektive Ätz- und Abscheideprozesse zur Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Mikrogeräten ausgelegt. Es verwendet eine Kombination aus hochfrequenten Radiowellen und einer Mischung aus reaktiven Gasen, um präzise Ätz- und Abscheidungsergebnisse zu erzielen. Dieser Reaktor ist in der Lage, die anspruchsvollsten Plasmaätz- und Abscheidungsprozesse mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit durchzuführen. AMAT P-5000 basiert auf modernster Technologie in Plasmaätzreaktoren. Es verwendet eine niederfrequente Plasmaquelle, die eine extrem präzise Steuerung und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit des Plasmas ermöglicht, was zu einer besseren Merkmalsdefinition und verbesserten Prozesszeiten führt. Das erweiterte Arbeitsvolumen des Reaktors sorgt auch für mehr Durchsatz und Effizienz bei der Großserienfertigung. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Plasmaätzreaktor P 5000 verfügt über sekundäre Ionisationsquellen wie Ionenstrahlen, Elektronen und ultraviolettes Licht, das zur Verbesserung der Auflösung und der Prozessgeschwindigkeit von Merkmalen verwendet werden kann. Die fortschrittliche zweikanalige Plasmaquelle liefert sowohl positive als auch negative Ionen, die eine präzise Ätzkontrolle ermöglichen. Die Vielzahl der im Prozess eingesetzten reaktiven Gase ermöglicht darüber hinaus einen individuell anpassbaren Ätzprozess, der auf die Anforderungen eines bestimmten Prozesses zugeschnitten werden kann. Der Reaktor ist außerdem mit einem HF-Schildsystem auf Quad-Basis ausgestattet, das eine ausgewogene und zuverlässige Plasmaumgebung bietet, die frei von externen Störungen ist. Das System wird mit Lappenoberflächen konstruiert, die mit mikroporösen Substraten verbunden sind und eine effektive Fernfeldabschirmung und minimale Hot-Spot-Temperaturen bieten. P5000 Plasmaätzreaktor ist das fortschrittlichste System seiner Klasse und liefert optimale Prozessergebnisse mit höchster Robustheit und Zuverlässigkeit. Sein modernes Design und die Fähigkeit, Prozesse anzupassen, machen es ideal für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen, wie die Herstellung von digitalen und analogen Hochgeschwindigkeitskomponenten.
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