Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9084588 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine fortschrittliche, automatisierte Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Ausrüstung, die in der Lage ist, eine breite Palette von Prozessen bei der Herstellung von fortschrittlichen elektronischen Materialien durchzuführen. Der AMAT P-5000 Reaktor verfügt über mehrere Plasmaquellen, die eine gleichzeitige Abscheidung von bis zu sechs separaten Filmen ermöglichen. Dies ermöglicht die Erstellung von Geräten über einen weiten Bereich von Dicken, Kristallinitäten und Dichten und ist in der Lage, Nanometergenauigkeit in der Geräteherstellung zu erreichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN Der P 5000 Reaktor ist hochkonfigurierbar mit mehreren Reaktoren und Quellen sowie unabhängig voneinander betriebenen Ein-/Ausschaltventilen und anderen Komponenten. Auf diese Weise können eine Vielzahl von Prozessrezepten entwickelt und ausgeführt werden, so dass der Anwender Strukturen in mehreren elektronischen Materialien und Strukturen herstellen kann. Diese Multi-Prozess-Konfiguration gibt dem Anwender auch mehr Flexibilität in der Art der Prozessrezepte, die verwendet werden können, und ermöglicht eine Vielzahl von maßgeschneiderten Lösungen, die auf Designanforderungen oder experimentellen Anforderungen basieren. APPLIKATIONSMATERIALIEN P5000 Reaktor verfügt auch über eine automatisierte Materialquellenregelung, die eine präzise Taktung einzelner Reaktionspartner innerhalb des Reaktors ermöglicht. Dies trägt dazu bei, dass die gewünschte Reaktion gleichmäßig im gesamten Substrat stattfindet, so dass gleichmäßige Schichten mit gleichbleibenden elektrischen und optischen Eigenschaften entstehen. Darüber hinaus kann P5000 Reaktor zur Schablonierung und zur Strukturierung von Mehrschichtfolien verwendet werden. EINSATZSTOFFE P-5000 Reaktor kann bei Temperaturen von 77K bis 650K und bei Drücken von 500 mBar bis 950 mBar arbeiten. Darüber hinaus verfügt es über eine integrierte Regeleinheit, die eine präzise Steuerung der Bearbeitungsumgebung ermöglicht. Dies trägt dazu bei, die Qualität und Reproduzierbarkeit der von der Vorrichtung hergestellten Schichten zu gewährleisten. Der AMAT P5000 Reaktor ist sehr zuverlässig und kompakt, mit vielen Komponenten, die für eine einfache Demontage und Wiedermontage ausgelegt sind. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Rapid Prototyping in Forschungslabors, die eine schnelle Produktentwicklung ermöglichen und neuartige elektronische Materialien schneller auf den Markt bringen. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor eine vielseitige und zuverlässige PECVD-Maschine, die für eine breite Palette von Prozessen bei der Herstellung von fortschrittlichen elektronischen Materialien eingesetzt werden kann. Mit seinen mehreren Plasmaquellen, der Durchflussregelung und dem automatisierten Quellensteuergerät ist P-5000 Reaktor in der Lage, hochgleichmäßige Filme in einer Reihe von Dicken, Kristallinitäten und Dichten zu erzeugen. Darüber hinaus ist es durch seine einfache Entfernung und Wiedermontage eine gute Wahl für Rapid Prototyping in Forschungslabors.