Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9087456 zu verkaufen

Der AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine hochmoderne Dünnschichtabscheidevorrichtung zur Abscheidung verschiedener dünner Materialien auf Halbleiterscheiben. AMAT P-5000 Reaktor ist in der Lage, hochwertige Abscheidungen von epitaktischem Silizium auf 200mm und 300mm Wafern abzuscheiden, sowie verschiedene dünne Filme wie amorphes Silizium, Metalloxide, Hafniumoxide und Silizide abzuscheiden. Zusätzlich kann es dünne Filme aus organischen Materialien und Metallschichten aus Aluminium und Kupfer abscheiden. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor ist ein reaktives Wärmebearbeitungssystem mit einem Wafer und geschlossenem Raum. Es beinhaltet eine Ionenstrahlquelle zur Ionisierung und Steuerung der Gasströmung in der Abscheidekammer, ein Quarzprozessfenster zum kontrollierbaren Zufluss von hochreinen gasförmigen Vorstufen, einen Duschkopf direkt über dem Prozessfenster, um Ionen in die Kammer einzuführen und auf die Substratoberfläche zu leiten, einen sich bewegenden Substrathalter, der verwendet wird, um jedes Substrat genau in der Prozesskammer zu positionieren, und eine Turbopumpeinheit, um ein Vakuum in der Kammer während der Filmabscheidung aufrechtzuerhalten. Die Maschine umfasst ferner einen Präzisionsrobotikarm zum Be- und Entladen von Substraten sowie ein Gashandhabungswerkzeug mit individuellen Durchflussreglern für jedes im Abscheideprozess verwendete Gas. Der Einzelwaferreaktor von AMAT P 5000 kann eine maximale Temperatur von 900 ° C erreichen und bei Temperaturen von Raumtemperatur bis zur maximalen Temperatur eingesetzt werden. Es kann auch in einer mit Sauerstoff angereicherten Umgebung verwendet werden, um die Geschwindigkeit der Filmabscheidung zu erhöhen und die Abscheidungstemperatur zu reduzieren. Die Anlage verfügt auch über integrierte Scanköpfe, die eine Messung der Materialeigenschaften der abgeschiedenen Schicht wie Plattenwiderstand, Plattendotierung und Foliendicke ermöglichen. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ist ein vielseitiges Werkzeug zur Dünnschichtabscheidung, das aufgrund seines einzigartigen Designs und seiner Eigenschaften Präzision und genaue Abscheidung ermöglicht. Das Modell ist in der Lage, eine Vielzahl von Dünnschichtmaterialien mit hervorragenden Ergebnissen abzuscheiden und eignet sich für den Einsatz in Reinraumumgebungen. Das Gerät ist hochautomatisiert und mit seinen Roboterarm, Leistungssteuerung und Prozessüberwachungssystemen relativ einfach zu bedienen, um die Produktivität des Abscheidungsprozesses zu erhöhen.