Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9097963 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD). Es ist ein produktionsreiches Werkzeug, das Herstellern dabei helfen soll, ihre Prozesse zu optimieren und den Ertrag zu steigern. AMAT P-5000 Reaktor ist ein Niederdruck, großflächige, skalierbare Abscheidung Ausrüstung in der Lage, Oxid-, Nitrid-und Poly-Silizium-Schichten zu produzieren. Besonders nützlich ist es bei der Abscheidung von hochentwickelten integrierten Schaltungsgeräten (IC) und bei der Herstellung von großflächigen Displays und Photovoltaik (PV) -Geräten. APPLIED MATERIALS P 5000 System ist eine flexible Plattform, die eine hochpräzise Kontrolle des Abscheidungsprozesses ermöglicht und die Herstellung von ultradünnen Gate-Oxiden, Gate-Stacks und Diffusionsschichten ermöglicht. Seine Niederdruckumgebung reduziert Oxidation und Verschmutzung, was zu dünneren, gleichmäßigeren Schichten mit besseren elektrischen Eigenschaften führt. Durch die Verwendung einer Inertgasumgebung aus Stickstoff oder Helium ermöglicht AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor einen hohen Durchsatz und Wiederholbarkeit bei minimaler Erosion von Quelle und Duschkopf. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über eine fortschrittliche Substratheizmaschine, die eine gleichmäßige Hochtemperatur-Gleichmäßigkeit über die Waferoberfläche gewährleistet und eine hervorragende In-situ-Messtechnik bietet. Dies ermöglicht eine genaue Echtzeit-Prozesssteuerung und reduziert Werkzeugausfallzeiten aufgrund anspruchsvoller Substratchemien. Der Reaktor AMAT P 5000 bietet zudem eine hochmoderne Quarzüberwachung zur Messung der spektralen Emissionen verschiedener Arten und zur Optimierung der Abscheidebedingungen für verschiedene Prozesse. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 Werkzeug kann mit mehreren unteren Kammerprozessen konfiguriert werden, einschließlich entferntem Plasma, Post-Etch-Plasma, fortschrittlichen Ätz- und Abscheidungsprozessen. Auch für die untere Kammer stehen fortschrittliche Magnetronsputter-, PVD- und Nassabscheidungsprozesse zur Verfügung. Ein integriertes, automatisiertes Wafer-Handling mit Roboter-Arm-Endeffektoren sorgt für schnelles und zuverlässiges Be- und Entladen des Wafers. Das Modell AMAT P5000 ist mit anspruchsvollen computergesteuerten Prozessmodulen ausgestattet, die eine große Benutzerfreundlichkeit bieten. Die P5000s modulare Architektur sorgt für schnelle und einfache Upgrades und senkt die Betriebskosten. P-5000 bietet auch schnelle Zykluszeiten, geringe Emissionen, automatische Wartungsprotokolle und einfache Integration in bestehende Fertigungsnetzwerke. P 5000 Geräte sind sehr zuverlässig und effizient, was es zu einer idealen Wahl für Hersteller macht, die ihre Prozesse optimieren und den Durchsatz erhöhen möchten.