Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9100769 zu verkaufen
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ID: 9100769
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Metal etcher, 8"
Process: Al
(2) MxP
ASP Chamber
Wafer transfer system
ASTEX Microwave power
Gas lines
Hardware:
Main process modules:
Chamber A
Metal etch B
Strip D
Mark ll Main frame
Storage elevator: 29 Slots
Independent helium cooling
Expanded VME
Phase III robot
Phase II cassette
Sub modules:
AC Remote frame
Digital cables
Analog cables
Emergency interlock cables
Heat exchanger
ENI OEM 12A RP Generator
ENI OEM 12B RP Generator
ASTEX Microwave
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine Art von CVD-Ausrüstung, die von AMAT entwickelt wurde. Dieses System ist ein fortschrittliches Halbleiterabscheidungswerkzeug, das für die Serienproduktion entwickelt wurde. Der Reaktor besteht aus mehreren Hardwarekomponenten, darunter einem Suszeptor mit Waferhaltern, einem Gasduschkopf, einer Heizung und einer Gasfördereinheit. Der Suszeptor ist eine hohe zylindrische Kammer mit einem flachen kreisförmigen Boden, der verwendet wird, um den Wafer während des Abscheidungsprozesses zu halten. Waferhalter sind auf dem Deckel des Suszeptors installiert, um die Wafer in einer bestimmten Reihenfolge anzuordnen. Der Gasduschkopf befindet sich innerhalb des Reaktors. Es ist mit mehreren Düsen ausgestattet, die eine bestimmte Menge der Reaktantgase aus der Fördermaschine auf die Waferoberfläche sprühen. Eine Heizung ist im AMAT P-5000 Reaktor enthalten, um die Temperatur innerhalb des Reaktors zu steuern, so dass eine genaue Auswahl der Reaktionstemperatur und Abscheiderate möglich ist. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor enthält auch ein automatisches Gasförderwerkzeug, das das richtige Gasgemisch bei normalem Betriebsdruck bereitstellt. Diese Ressource trägt auch dazu bei, eine saubere Umgebung zu erhalten, um eine Kontamination des Wafers und den Abscheidungsprozess zu verhindern. Schließlich ist P 5000 Reactor mit einem Sicherheitsmodell ausgestattet, das den Innendruck, den Gasfluss und die Temperatur überwacht, was optimale Abscheidungsparameter gewährleistet und eine sichere Arbeitsumgebung bietet. Das Ergebnis des CVD-Prozesses in APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist ein hochwertiges, konsistentes und einheitliches Produkt. Diese Ausrüstung ist ideal für Hersteller von Halbleiterbauelementen, da sie eine hohe Serienproduktion bewältigen und eine hohe Ausbeute bieten kann.
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