Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9102224 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9102224
Wafergröße: 8"
System, 8" (2) CVD Chambers Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Prozessreaktor für die Hochtemperatur-Halbleiterverarbeitung. Es ist ein Hochleistungswerkzeug, das die Herstellbarkeit fortschrittlicher Halbleiterbauelemente ermöglicht. AMAT P-5000 ist aufgrund seiner überlegenen Genauigkeit und reinraumkompatiblen Funktionen ideal für fortschrittliche 3D-integrierte Geräte wie Transistoren, DRAMs und andere. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 verfügt über eine Kammer aus Edelstahl und Quarz, mit einem horizontal montierten Wärmestrahlungsschild, der die Wände, die Decke und den Boden abdeckt. Das Design verfügt über eine einzigartige gasdichte und einheitliche Isolationsausrüstung, die eine effiziente Möglichkeit zur Kontrolle der Umgebung bietet und eine genaue Analyse der Geräteleistung ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 nutzt eine fortschrittliche thermische Gleichmäßigkeitskontrolle, die sicherstellt, dass alle Verarbeitungsparameter in einem konstanten Bereich gehalten werden und eine konsistente Geräteproduktion ermöglicht. AMAT P5000 ist modular aufgebaut und bietet Funktionen wie Ferndiagnose und Wartungssteuerung sowie Rezepturen. Diese Funktion ermöglicht es Fertigungsingenieuren, Rezepte basierend auf Geräteverarbeitungsanforderungen zu speichern und abzurufen, wodurch Operationen automatisiert und optimiert werden können. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt auch über ein fortschrittliches Sicherheitspaket, das eine sichere und fehlerfreie Verarbeitung gewährleistet. Es umfasst automatische Absperrventile für potenziell gefährliche Gase, Drucksensorschnitte und das Fehlen von Sauerstoffsensorkontakten sowie Nieder- und Hochdruckgrenzen. Darüber hinaus bietet AMAT P 5000 ein ausgeklügeltes Wärmemanagementsystem. Diese Einheit verteilt die Wärme gleichmäßig und sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung: Gewährleistung der Gleichmäßigkeit der Verarbeitungsparameter wie Temperatur, Druck und andere. Es verfügt auch über eine Vielzahl von anpassbaren Kühlsystemen, die eine effizientere Möglichkeit zur Kühlung der Maschine und eine schnellere Abkühlzeit bieten. P5000 bietet auch eine Vielzahl fortschrittlicher Prozesstechnologien, die es ermöglichen, bis zu sieben Materialschichten gleichzeitig zu verarbeiten. Das Werkzeug ist in der Lage, Spin-Beschichtung, PVD, CVD, Ätzen, ALD und andere leistungsstarke Prozesse mit totaler Kontrolle der induktiven, strahlenden und thermischen Wärmequellen zu verwenden. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P5000 ein vielseitiger und zuverlässiger Reaktor, ideal für die Hightech-Halbleiterverarbeitung. Mit seinen Präzisions- und Sicherheitsmerkmalen eignet es sich perfekt für die komplexe, integrierte Geräteherstellung.
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