Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103464 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist für die flexible Ionenimplantat- und Ionenstrahlabscheidungsbearbeitung von Halbleitersubstraten ausgelegt. Es ist in der Lage, eine hochpräzise Verarbeitung für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation zu erreichen. AMAT P-5000 ist modular konzipiert und hochgradig anpassbar, damit Kunden ihre Ionenimplantat- und Ionenstrahlabscheidungsprozesse an die spezifischen Anforderungen ihrer Wafer anpassen können. Das Gerät verfügt über zwei Kammern und eine Kammerkonfiguration, die bis zu vier Wafer in ihrer größten Konfiguration unterstützen kann. Die Kammern werden durch unabhängige Vakuum betrieben und haben jeweils eine eigene, abgedichtete Umgebung. Die erste Kammer der APPLIED MATERIALS P 5000 beherbergt die Ionenquelle, die Reaktorkammer, das Massenspektrometersystem und die Quellenauswahlvakuumeinheit. Die Ionenquelle ist ein zylindrisches Diffusionsgefäß mit einer Fusionsstromquelle. Es bietet eine breite Palette von Energien und Startgeometrien für eine Vielzahl von Wafer-Verarbeitungsvorgängen wie Dotieren, Dotieren Transport und Dotieren Diodenbeschränkung. Die Reaktorkammer von AMAT P5000 ist mit einem schwimmenden Magnetring und verstellbaren Anodenplatten ausgestattet, die für einheitliche Ionenstrahl-Bombardierbedingungen und einen sehr geringen Hintergrundstrom sorgen. Die Massenspektrometermaschine von APPLIED MATERIALS P5000 ist für die genaue Identifizierung von Verunreinigungsarten und für die Feinabstimmung von Implantat- und Abscheidungsparametern ausgelegt. Die zweite Kammer von P 5000 beherbergt den Prozesssteuerungs- und Datenerfassungsrechner, der eine vollständige Regelung der Ionenimplantat- und Ionenstrahlabscheidungsprozesse ermöglicht. Das Tool verfügt über eine erweiterte benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, die eine schnelle und einfache Steuerung bei minimaler Konfiguration ermöglicht. P-5000 ist in der Lage, die Konzentrationen aller in der Prozesskammer vorhandenen Spezies vollständig zu kontrollieren und den Strahlstrom, den Ionenstrom, die Energie und die Stochiometrie des resultierenden Strahls zu steuern. Das Asset ist auch in der Lage, wiederholbare Ergebnisse mit Nanoskala Genauigkeit zu erzielen. Das Gesamtdesign von AMAT P 5000 macht es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Entwicklung leistungsfähiger Waferbearbeitungstechnologien. Der modulare Charakter des Modells, kombiniert mit seinen hochpräzisen Mikroverarbeitungsfähigkeiten, machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug, das auf die Bedürfnisse fast jeder Substratverarbeitungsaufgabe zugeschnitten werden kann. Durch die Nutzung des Designs und der Fähigkeiten von AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 können Prozessingenieure hochpräzise Ergebnisse mit beispielloser Effizienz und Flexibilität erzielen.