Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9111886 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9111886
Wafergröße: 6", convertible to 8"
Weinlese: 1992
Metal etcher, 6", convertible to 8"
Chamber A: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber B: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber C: ASP
Chamber D: N/A
Storage elevator: 29-Slot
Robot: Standard 6"
Cassette indexer: 6"
Chucking type: mechanical clamp
Chillers: (4) Dasan DHX-440D
Dry pumps: (4) Edwards QDP80
Gas scrubbers: (2)
Monitors: (2)
Power cables, RF cables, and signal cables
Chambers A Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT HFC 8160 200 Sccm
Gas2 N2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas4 N/A
Gas5 N/A
Gas6 N/A
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS
Turbo Pump Seiko Seiki
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chambers B Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT UFC-1160A 100 Sccm
Gas2 N2 UNIT UFC-1161A 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT UFC-1160 100 Sccm
Gas4 O2 UNIT UFC-1163A 100 Sccm
Gas5 CF4 UNIT UFC-1164A 50 Sccm
Gas6 CHF3 UNIT UFC-1165A 100 Sccm
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS 1Torr
Turbo Pump Seiko Seiki STB-301CB1
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chamber C Configuration:
Gas1 N2 UNIT UFC1860 2SLM
Gas2 O2 UNIT UFC1160A 5SLM
Gas3 N/A
Gas4 NH3 UNIT UFC-8160 100 Sccm
Gas5 H2O VDS Tylen UC-4900MEPR 500Sccm
Chamber Manometor MKS 10Torr
Chamber Manometor MKS 100Torr
Microwave Generator ASTECK AX-2115 1500W
Currently de-installed
1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine innovative Reaktorausrüstung, die speziell entwickelt wurde, um vielseitige und kostengünstige Prozesslösungen für die fortschrittliche Materialbearbeitung zu liefern. Es bietet eine umfassende Palette von Lösungen für Prozesse wie Ätzen, Abscheiden, Oxidation und Glühen unter Berücksichtigung der mit solchen Prozessen verbundenen Kosten und Komplexität. Das System ist sowohl in Unter- als auch in Vollformatkonfigurationen erhältlich und eignet sich für eine Vielzahl von Materialien, von Dielektrika bis zu Metallen. Der AMAT P-5000 Reaktor verwendet eine patentierte Kombination aus induktiv gekoppelter HF-Plasmatechnologie und einer fortschrittlichen Elektronenzyklotron-Resonanzquelle, die zur Erzeugung einer hochreaktiven sauerstoffreichen Atmosphäre für hochfrequent gepulste Ätzprozesse verwendet wird. Diese Technologie bietet eine Reihe von Vorteilen gegenüber herkömmlichen Plasmaquellen, einschließlich höherer Ätzrate, verbesserter Gleichmäßigkeit und reduzierter Prozessvariationen. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS P 5000 mit fortschrittlichen numerischen Steuerungssystemen und ausgeklügelter Software für die Ausführung von Aufträgen mit verbesserter Genauigkeit ausgestattet. APPLIED MATERIALS P5000 ist für hochdurchsatzfähige und wiederholbare Prozesse konzipiert und erzeugt gleichmäßige Merkmale mit hoher Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit. Der Reaktor nutzt die Double-Point Chemical Vapor Deposition (CVD) Technologie, die eine hohe Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit bietet. Darüber hinaus kann AMAT P 5000 Filme so dünn wie ein einzelnes Nanometer und große Filme so dick wie 10 Mikrometer mit einer Abscheiderate von bis zu einem Nanometer pro Sekunde verarbeiten. P-5000 verwendet einen automatisierten Substratheber zum Be- und Entladen, der kurze Taktzeiten bietet und den Durchsatz maximiert. Seine programmierbare Prozesssteuerung verarbeitet mehrere Aufträge gleichzeitig mit fortschrittlichen Software-Algorithmen, um sicherzustellen, dass Prozessrezepte für jede Anwendung optimiert werden. Die automatisierte Be- und Entladeeinheit ist in der Lage, bei extrem hohen Geschwindigkeiten hochpräzise Ergebnisse zu erzielen. P 5000-Maschine ist auch mit einem erweiterten Überwachungs- und Diagnosemodul ausgestattet, das mehrere Werkzeug-Level-Operationen umfasst, mit denen Benutzer die Anlagenleistung überwachen, diagnostizieren und fehlerbeheben und die Ausrüstungsleistung optimieren können. Es bietet auch eine benutzerfreundliche Softwareschnittstelle, die einfach zu bedienen und zu verstehen ist. So können Anwender schnell und einfach Aufträge einrichten und die notwendigen Prozesse programmieren, um ihre Anwendung abzuschließen. Die erweiterten Diagnose- und Analysefunktionen von AMAT P5000 ermöglichen es Benutzern, die Modellleistung schnell zu überwachen und zu beheben, um ihre Prozesse zu optimieren. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 bietet eine umfassende Lösung für die fortschrittliche Materialbearbeitung mit innovativer Technologie und hochentwickelten Steuerungssystemen, die komplexe Prozesse mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit ermöglichen. Das Gerät eignet sich für eine Reihe von Materialien, von nanometerdicken Folien bis zu 10 Mikrometer dicken Folien und bietet eine Reihe von Vorteilen gegenüber herkömmlichen Plasmaquellen. Es bietet auch anspruchsvolle Software für einfache Programmierung und Zykluszeiten, die den Durchsatz maximieren sollen.
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