Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9116159 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein führender Halbleiterreaktor, der in Ätz- und Abscheidungsprozessen eingesetzt wird. Dieser Reaktor bietet zuverlässige Anlagenleistung, kostengünstigen Betrieb und Prozesssteuerung, die eine schnelle Lieferung neuer Produkte ermöglichen. Der AMAT P-5000 Reaktor verfügt über einen 13.56MHz Generator sowohl für Hochleistungs-HF-Sputter- als auch für Hochdichte-induktiv gekoppelte Plasma- (ICP) -Prozesse. Die Prozesskammer ist für eine effiziente Gasmischung, eine präzise Strömungssteuerung und eine präzise Gaskonzentrationspflege ausgelegt. Vakuumniveaus werden durch eine mechanische Membranvorpumpe aufrechterhalten. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor verwendet auch ein Vakuumschieber Ventil für präzise trapezförmige Druckregeln. Neben seiner hohen Leistung bietet der AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor mit seinem einzigartigen Design Kosteneinsparungen, die das Verhältnis der installierten Ionenflussdichte pro Flächeneinheit bei optimal genutzter Hardware maximieren. Die dabei aufgebrachte Leistung ist hocheffizient, was Kostenvorteile mit sich bringt, da weniger Betriebsleistung benötigt wird. APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt über eine Kombination aus gepulsten und kontinuierlichen Gleichspannungsquellen mit präziser Pulsbreite, Frequenz- und Amplitudenregelung. Dies ermöglicht die Optimierung von Ätz- und Ablagerungsrezepten und gewährleistet eine hervorragende Ausbeute und Qualität. P-5000 bietet mit seiner präzisen Temperatur- und Druckregelung verbesserte Folieneigenschaften wie Gleichmäßigkeit, Dichte und Dicke. Anspruchsvolles Prozessdesign, präzise Steuerung des Filmwachstums und verbesserter Durchsatz sind einige der wichtigsten Vorteile von AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor. Der Reaktor weist eine Ionenquelle mit separaten Emittern für verschiedene Mate Riale und Schichten auf. Darüber hinaus verfügt dieser Reaktor über ein Gaseinspritzsystem, das eine präzise Gasverteilung und Druckregelung auf unterschiedlichen Niveaus innerhalb der Kammer gewährleistet. Der AMAT P5000 Reaktor ermöglicht darüber hinaus Hochgeschwindigkeits-Fertigungsprozesse mit volldigitalem Niederspannungs-DC, Wechselstrom (AC) und Sputter-Netzteilen. Durch die Bereitstellung zuverlässiger Ausrüstungsleistung und kostengünstigem Betrieb ist P 5000 eine beliebte Wahl für die Halbleiterherstellung.