Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9134013 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9134013
Wafergröße: 6"
PECVD Etchers, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine sub-atmosphärische, integrierte Rapid Thermal Processing (RTP) -Ausrüstung, die entwickelt wurde, um eine hohe Ausbeute und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung verschiedener Materialien zu ermöglichen. Mit diesem System können Bauelemente in einer Vielzahl von Branchen gefertigt werden, darunter Halbleiter, Mikroelektronik, medizinische und spezielle Optik. AMAT P-5000 Reaktor ist in der Lage, bei Temperaturen von bis zu 2000 ° C in einer Heliumatmosphäre zu verarbeiten, was verschiedene fortgeschrittene Dünnschichtabscheidungstechniken wie thermische Oxidation, Sputter-Ionen-Beschichtung, ALD, CVD und ALD-CVD-Verfahren ermöglicht. Es umfasst verschiedene erweiterte Merkmale wie automatische Rezeptureinstellung, dynamische Ozonreinigung für die schmutzarme Dünnschichtabscheidung, Spülverschlüsse zur Steuerung des Gasstroms, einen motorisierten Waferträger zur schnellen Vorausrichtung von Wafern vor der Abscheidung sowie einen kundenspezifisch gestalteten Suszeptor-Rahmen. Dieses Gerät bietet auch flexible Prozessoptionen und modulare Erweiterbarkeit, so dass Benutzer die neuesten Dünnschichtabscheidungstechnologien integrieren können. APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor verfügt über eine hochauflösende Kamera, die eine schnelle Ausrichtung des Wafers und eine genaue Positionierung des Endprodukts innerhalb der Prozesskammer mit einem Vakuumspiegel von bis zu 5E-5 Torr ermöglicht. Es verfügt auch über eine eingebaute Ladeblockiermaschine, die das Be- und Entladen der Wafer unter Beibehaltung einer konsistenten Verarbeitungsumgebung ermöglicht. Dies gewährleistet stabile und wiederholbare Ergebnisse über mehrere Prozesszyklen hinweg. Schließlich enthält das Werkzeug einen Kühlventilator, um überschüssige Wärme aus der Prozesskammer zu entfernen, wodurch eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung über alle Substrate gewährleistet ist. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor ist eine ausgezeichnete Option für alle, die eine effiziente und kostengünstige Ressource für fortschrittliche Dünnschichtabscheidung suchen. Dank seiner flexiblen Konfiguration können Anwender mit fortschrittlichen Dünnschichtabscheidungstechnologien Schritt halten und so hochpräzise, wiederholbare Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen gewährleisten.
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