Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9134767 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher, integrierter Einzelwaferreaktor, der für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Mit einer innovativen planaren Architektur ist AMAT P-5000 in der Lage, fortschrittliche Abscheidungsprozesse wie chemische Dampfabscheidung (CVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD) zu ermöglichen. Damit eignet es sich perfekt für dünne Filme und Nanostrukturen für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen. Das System besteht aus vier Hauptkomponenten. Die erste ist die Prozesskammer, die eine Anzahl von Gasleitungen und einen Top-Down-Dampferzeuger umfasst. Im Inneren erwärmt der Dampferzeuger Materialien in der Kammer, während Gasleitungen die verdampften Materialien auf das Substrat einspritzen. Die Kammer ist mit einer N2-Spülung verschlossen, wodurch eine Materialverschmutzung verhindert und unerwünschte Reaktionen reduziert werden. Die zweite Komponente von APPLIED MATERIALS P 5000 ist der Plasmagenerator. Diese Komponente erzeugt die gewünschte Reaktion in der Kammer, indem sie Hochfrequenz (RF) Energie verwendet, um die Moleküle in der Kammer anzuregen. Dieser Prozess hilft, Defekte und Verunreinigungen zu reduzieren, die für die Optimierung der Geräteleistung entscheidend sind. Die dritte Komponente von APPLIED MATERIALS P5000 ist das Plattformsystem, das eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses ermöglicht. Dies umfasst eine Reihe von Modulen, die den Druck, die Temperatur und den Gasstrom in der Prozesskammer steuern. Es enthält auch eine Reihe von Sensoren, um den Prozess zu überwachen, so dass für Echtzeit-Tuning, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Schließlich ist die vierte Komponente das Automatisierungssystem, das sicherstellt, dass der gesamte Abscheideprozess nach der vorgesehenen Rezeptur gesteuert wird. Dies ermöglicht eine hohe Wiederholbarkeit, was für Ingenieure, die komplexe Gerätestrukturen erstellen, von entscheidender Bedeutung ist. Zusammenfassend ist P 5000 ein fortschrittlicher, integrierter Einzelwaferreaktor, der den Anforderungen der fortschrittlichen Halbleiterbauelementproduktion gerecht wird. Mit seiner planaren Architektur und seiner umfassenden Komponentensuite ist AMAT P5000 in der Lage, dünne Filme und Nanostrukturen mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit zu erstellen.