Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9153669 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine fortschrittliche Abscheideausrüstung von AMAT, einem Unternehmen, das für den Verkauf und die Unterstützung von Geräten für die Forschung und die Halbleiterindustrie bekannt ist. Dieser Reaktortyp wird zum hochpräzisen Sputtern von Dünnfilmen für Anwendungen wie Lithographie und dielektrische Isolation eingesetzt und ist ein führendes Beispiel für ein hochmodernes Dünnschichtabscheidungssystem. Diese spezielle Abscheideeinheit weist eine mehrarmige Prozesskammer mit einer 2-Segment-Pumpmaschine und einem integrierten On-Axis-Bereich auf. Es besteht aus einer hochwertigen Edelstahl-Vakuumkammer und kann neun Prozessarme aufnehmen, die jeweils für den Umgang mit hermetischen Waferträgern ausgelegt sind. Die in der Kammer befindlichen Schildplatten bestehen aus einem Aluminium-Rückgrat mit Kohlefaser-Verbundseitenwänden. Die Prozesssteuerungssoftware ermöglicht es dem Anwender, die elektrischen, mechanischen und chemischen Zustände der Kammer und ihrer Komponenten zu steuern, um die gewünschten Prozessergebnisse zu erzielen. AMAT P-5000 ist mit zwei eingebauten Netzteilen zum Sputtern ausgestattet und bietet eine vollständige Kontrolle über den Zielstrom. Es unterstützt eine Reihe von Sputtermaterialien von Metallen bis hin zu Legierungen, organischen und sogar Oxiden. Zur Optimierung des Abscheideprozesses kann das Werkzeug alle im Zielmaterial vorhandenen Verunreinigungen erkennen und bietet eine Echtzeitanzeige von Zielstrom und -druck. Dadurch wird sichergestellt, dass das Material mit maximaler Gleichmäßigkeit gesputtert wird, wodurch eine hochpräzise Dünnschichtabscheidung möglich ist. Das Asset hat auch die Möglichkeit, die Wafertemperatur zu messen, sodass der Benutzer die Abscheidebedingungen optimieren kann. Damit kann auch sichergestellt werden, daß die Substrattemperatur unterhalb des Schmelzpunktes des gewünschten Materials liegt. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist mit verschiedenen anderen Funktionen ausgestattet, um eine effektive Zielnutzung zu gewährleisten. Beispielsweise enthält es ein erweitertes Zielmanagementmodell, um verwendetes Zielmaterial automatisch auszuschließen und Schäden an der Ausrüstung und ihren Komponenten zu vermeiden. Darüber hinaus liefert seine einstellbare Ionenquelle verbesserte Abscheidungsergebnisse und ermöglicht eine bessere Gleichmäßigkeit zwischen den Matrizen. Schließlich verhindert sein einzigartiges Luftfiltersystem, dass Schmutz- und Staubpartikel in die Vakuumkammer gelangen, was eine bessere Prozessstabilität und Gleichmäßigkeit gewährleistet. Insgesamt ist P5000 eine hochwertige, hochmoderne Dünnschichtabscheideeinheit, die überlegene Präzision und Prozesskontrolle bietet. Es ist entworfen, um eine Vielzahl von Materialien zu handhaben und seine Eigenschaften helfen, den Abscheidungsprozess zu optimieren, so dass es perfekt für Forschung und industrielle Anwendungen gleichermaßen.