Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9166441 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine hocheffiziente Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktorausrüstung von AMAT, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Mikrochips verwendet wird. Dieses CVD-Reaktorsystem verfügt über viele nützliche Funktionen, darunter eine verbesserte Drucksteuereinheit (Enhanced Pressure Control Unit, EPC), die aufgrund ihrer Fähigkeit, Gasströme und -drücke ordnungsgemäß zu verwalten, eine präzise Herstellung der gewünschten Materialien ermöglicht. Die Maschine wird routinemäßig mit einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Silizium, Kupfer und Siliziumkarbid, für eine Reihe von Anwendungen verwendet. Die Abscheidung ist in der Lage, große Mengen Substrat schnell und effizient abdecken, so dass es ideal für die Halbleiterherstellung. Dieses Werkzeug ermöglicht eine höhere Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit während des Abscheidungsprozesses, was zu qualitativ hochwertigeren Teilen, größeren Erträgen und einer schnelleren Produktion führt. Die Anlage hat auch einen niedrigen Temperatur- und Druckbereich, der das Substrat vor thermischen Schäden schützt. AMAT P-5000 CVD Reactor Modell ist mit einer Reihe von Zubehör ausgestattet, um den Abscheidungsprozess zu optimieren. Es verwendet einen Prozessor mit variabler Frequenz, der eine präzise Steuerung der HF-Leistung während des Abscheideschritts ermöglicht und gewährleistet, dass das thermische Budget und die Sicherheitsanforderungen erfüllt sind. Das Gerät wird auch mit abnehmbaren Kühlmodulen, einem fortschrittlichen Vakuum- und Temperaturkontrollsystem und einem erdisolierten Futter geliefert, um die maximale Leistung bei minimaler Beschädigung des Substrats zu gewährleisten. Das Gerät ist eine integrierte Lösung, die eine breite Palette von Funktionen bietet, einschließlich Wafer-Level-Tests, Datenberichte und erweiterte Prozessanalysen. Mit der Datenberichterstattungsmaschine können Bediener die Ablagerungsrate und -ergebnisse problemlos anzeigen und bei Bedarf Änderungen oder Anpassungen vornehmen. Dies kann Anbietern helfen, Probleme während des Produktionsprozesses leicht zu erkennen und sicherzustellen, dass ihre Produkte die gewünschten Qualitätsstandards erfüllen. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P 5000 CVD Reactor Tool ein fortschrittliches und zuverlässiges Werkzeug für die Halbleiterproduktion und bietet ausgezeichnete Leistung und Wiederholbarkeit für eine breite Palette von Materialien. Mit seiner umfassenden Palette an Funktionen, Zubehör und Analysen können Bediener eine hohe Qualität der Produktion gewährleisten, die durch zuverlässige Leistung unterstützt wird.