Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9171284 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Abscheidungsreaktor zur Abscheidung von Dünnfilmbeschichtungen auf Halbleiterscheiben in einer Plasmaumgebung. Der Reaktor ist speziell für die Arbeit mit Halbleitermaterialien wie Silizium, Siliziumdioxid, dreidimensionalen (3D) Transistoren und photonischen integrierten Schaltungen ausgelegt. Es ist in der Lage, große Waferflächen zu liefern und Empfindlichkeiten im Zusammenhang mit der Feinlinienphotolithographie leicht zu handhaben, was zu höheren Ausbeuten im Herstellungsprozess führt. AMAT P-5000 Kammer enthält einen achteckigen Sockel mit einem fortschrittlichen Prozess Hebemechanismus. Dies ermöglicht eine genaue Position und Stabilität des Wafers während der Bearbeitung durch Einhaltung eines konstanten Abstandes zwischen dem Wafer und der oberen Elektrode. Der Hubmechanismus kann zur Reduzierung von Verschmutzungen und Waferbrüchen sowie zur Feinabstimmung der Verarbeitungsparameter für verschiedene Materialien eingesetzt werden. APPLIED MATERIALS P 5000 erreicht eine hohe Gleichmäßigkeit während des gesamten Abscheidungsprozesses, indem es ein einzigartiges Dual-Gun-Source-Design umfasst. Die Dual-Gun verfügt über zwei Elektronen-Zyklotron-Resonanz (ECR) Plasmaquelle, die hilft, Ungleichförmigkeit zu minimieren. P-5000 verfügt auch über ein proprietäres Modul zur Leistungsverteilung, das eine zuverlässige und gleichmäßige Stromverteilung von der ECR-Plasmaquelle auf den Wafer gewährleistet. Zusätzlich zum Leistungsmodul nutzt P5000 eine patentierte Gasausrüstung zur gezielten Gasabscheidung. Dieses System steuert mehrere Gasquellen und ermöglicht die Feinabstimmung von Gasrezepten, um Abscheidungsraten, Gleichmäßigkeit und Abscheidungseigenschaften zu optimieren. Eine dedizierte softwaregesteuerte Prozessmanagementeinheit dient als „Gehirn“ der Maschine. Dieses Tool wurde entwickelt, um die Prozesseffizienz durch die automatische Steuerung von Rezeptparametern und Wartungszyklen zu optimieren. Dies reduziert die Fertigstellungszeit und erhöht die Produktionserträge. Insgesamt ist AMAT P5000 ein sehr vielseitiger Abscheidungsreaktor, der überlegene Prozessergebnisse für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen liefern kann. Es bietet überlegene Leistung für kleine und große Abscheideläufe sowie erhöhte Verfügbarkeit und geringere Kosten im Vergleich zu herkömmlichen Abscheidekammern.