Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9172854 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein von AMAT, Inc. Der Reaktor nutzt eine Reihe unterschiedlicher Magnetfelder, HF-Frequenzen und Plasmaquellen, um eine breite Palette von Verarbeitungstemperaturen und Flußmengen zu erreichen, was höhere Abscheidungsraten, höhere Prozessausbeuten und die Fähigkeit zur Verarbeitung großer Wafer in einem einzigen Ansatz ermöglicht. Verfahren, die mit AMAT- P-5000 durchgeführt werden können, umfassen Epitaxie, Abscheidung hochleistungsfähiger dielektrischer Schichten, diamantartige Kohlenstoffabscheidung, Photoresistveraschung, Ätzen von Aluminium und Silizium sowie verschiedene Ätzreinigungsprozesse. Angewandte Materialien P 5000 verfügt über eine flexible Umgebung, die die effektive Verarbeitung von Materialien mit einer Vielzahl von Kombinationen von Abscheidungstemperaturen, Strömungen, Kammerkonfigurationen und Gasen ermöglicht. Aufbauend auf den Fähigkeiten seines Vorgängers verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 auch über Systemskalierbarkeit mit der Fähigkeit, sich auf komplexere Ablagerungen einzustellen. Das System verfügt zudem über eine verbesserte Quelllebensdauer mit größeren Quellbereichen und verbesserten integrierten Ofensensoren zur Steuerung prozessspezifischer Parameter. APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist in drei Kammerkonfigurationen erhältlich: Single Chamber Configuration (SC), Double Chamber Configuration (DC) und Triple Chamber Configuration (TC). Das Kammerabteil hat eine Edelstahlkonstruktion mit austauschbaren Goldkeimverdampfermodulen für verbesserte Gleichmäßigkeit und voll programmierbare Gasverteilung für Flexibilität in Abscheidungschemikalien. Eine Reihe von Quellen und Komponenten für jede Konfiguration helfen, eine gleichmäßige und gleichmäßige Materialabscheidung auch auf großen Substratgrößen zu gewährleisten. P 5000 kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien wie Aluminium, Titan, Nitroute-dotiertes Aluminium, Chrom, Antimon, Wolfram und Siliziumdioxid abzuscheiden. Die Fähigkeit, Prozessparameter, gleichmäßige Abscheidung und hohen Durchsatz genau zu steuern, ermöglicht eine hohe Abscheidungsqualität, minimierte Kosten für Nichtkonformität (CNC) und optimale Ergebnisse in kurzen Bearbeitungszeiten. Die verbesserte energieeffiziente Kühltechnologie von AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ermöglicht eine größere, gleichmäßigere Abscheidefläche mit verbesserter Ebenheit. Darüber hinaus verfügt das System über Komponenten, die entwickelt wurden, um Wartung und Ausfallzeiten durch die Automatisierung von gemeinsamen Aufgaben zu reduzieren, einschließlich des automatischen Austauschs von Quellen und Pumpen, verbesserter HF- und Bias-Anpassung und automatischer End-of-Run-Sensorkalibrierung. Insgesamt ist P5000 ein fortschrittlicher, vielseitiger Plasma-fähiger CVD-Reaktor, der für die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien für eine Vielzahl von Verarbeitungsanforderungen entwickelt wurde. Es ist eine ideale Wahl, um qualitativ hochwertige, ertragreiche Ergebnisse in einer Vielzahl von Prozessen zu erzielen.