Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9177255 zu verkaufen

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ID: 9177255
Etcher (2) Chambers Cleanroom: 4", 5", 6" robot (15) Slot storage elevators IPT P/N: 10A0207-5 Rev D Mini SBC reset (2) Analog inputs (2) Analog outputs VGA Video (3) Program run stepper conts (5) DI / DO +24 V HB (3) LH Turbotronik NT 340 M Magnetic bearing PCB V 2.0 (2) TC Gauges Lambda LIS-31-12, 12 V +/-5%, 1.25 A @40 C Carlton-bates WBPS-15-7 15+/- 5%, 7.0 A @40 C Lambda LIS-71-15, 15 V +/- 5%, 5.0 A @40 C Buffer I / O AI MUX (2) OPTO (4) APPLIED MATERIALS Chopper drives APPLIED MATERIALS 0850-00088 Wall mount display panel Includes components: PC Endpoint: Part no: 0010-36543 REV F 471-KM Chamber A: APPLIED MATERIALS RF Match: P/N: 0010-33566 Chamber C: APPLIED MATERIALS RF Match: P/N: 0010-33566R Chamber D: APPLIED MATERIALS RF Match: P/N: 0010-33566R LUXTRON 1104 Monochromator Options: 5001-1104-20-00 (3) VAT 0300X-MA24-1006 / 0490 A-273567 Throttle valves (3) 1 Torr pressure transducer manometers Circuit breaker panel (2) Frame side panels (3) Remote generator I / O cables Remote NESLAB I / O cable (3) Remote pump start cables (3) Remote vacuum I / O signal cable (3) RF Generator cables (3) RF Match I / O cables Robot alignment controller.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Prozesskammer ist ein voll ausgestatteter Hochleistungsreaktor. Dieser Reaktor wurde für die maximale Abscheiderate, Gleichmäßigkeit und Prozesskontrolle entwickelt und umfasst eine integrierte InLine Direct Measurement (IDM) -Ausrüstung für die Gasflussregelung N2 oder O2 sowie eine bewährte Plasmaquelle, eine fortschrittliche Elektronenzyklotron-Resonanztechnologie, einen Heißdraht-Schutz. AMAT P-5000 ist mit seiner großen Prozessfläche von 254mm x 304mm ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Substrattypen in Groß- und Kleinserienproduktionen. Das System umfasst eine 1-Bar-Vakuumquelle mit einer Kombination aus fortschrittlichen, anspruchsvollen ölfreien Pumpsystemen, einschließlich einer molekularen Schlepppumpe und einer Turbo-Molekularpumpe. Diese Kombination bietet eine außergewöhnlich große Pumpgeschwindigkeit von bis zu 200.000 Litern pro Sekunde und ermöglicht schnelle, zuverlässige Prozesszyklen. Die große Prozessfläche ermöglicht maximalen Durchsatz und steigert die Produktion Wachs in einem einzigen Lauf. Das Gerät verfügt außerdem über ein modernes DC- und HF-Netzteil, das eine reibungslose und zuverlässige Abscheidung von Metallen, Oxiden, Polysilizium, Dielektrika und Nitriden ermöglicht. Seine Elektronenzyklotronresonanztechnologie ist hocheffizient und gewährleistet gleichmäßige Abscheidungsbedingungen über den gesamten Waferbereich. Ein einzigartiger zweistufiger Prozess wird verwendet, um hohe Abscheidungsraten bei minimalem Gas- und Stromverbrauch zu gewährleisten. Sicherheitsmerkmale wie Heißdrahtschutz, Kurzschlussschutz, Niederdruckschutz und Überspannungsschutz sorgen für zusätzliche Sicherheit eines sicheren Prozesses. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist auch kompatibel mit einer breiten Palette von Prozessgasen und brennbaren Vorratsbehältern, und eine eingebaute Argonzuführung ermöglicht einfache Prozessanpassungen ohne externe Gaszufuhr. Diese Maschine unterstützt auch eine Vielzahl von optionalem Zubehör, darunter Ionenquellen und Ionenkammern, Degasysteme, Spektrumanalysatoren und Waferliftmechanismen, sowie eine intuitive Steuerungssoftware, die extrem einfach zu bedienen ist. Abschließend ist APPLIED MATERIALS P5000 Prozesskammer eine ideale Wahl für eine effiziente und zuverlässige Abscheidung von Metallen, Oxiden, Polysilizium, Dielektrika und Nitriden. Die hohe Durchsatzleistung in Kombination mit fortschrittlichen Funktionen wie der ECR-Technologie und der integrierten Argon-Zuführung machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jede Anwendung, die reibungslose, zuverlässige Prozesszyklen mit zuverlässigen Ergebnissen erfordert.
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